[發(fā)明專利]用于分析、表征和/或診斷如異常生長(zhǎng)的樣本或組織的類型或性質(zhì)的拉曼光譜系統(tǒng)、裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580046151.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-07-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106793917B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃志偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 新加坡國(guó)立大學(xué) |
| 主分類號(hào): | A61B1/00 | 分類號(hào): | A61B1/00;G01N21/65 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 康艷青;姚開(kāi)麗 |
| 地址: | 新加坡11*** | 國(guó)省代碼: | 新加坡;SG |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 分析 表征 診斷 異常 生長(zhǎng) 樣本 組織 類型 性質(zhì) 光譜 系統(tǒng) 裝置 方法 | ||
1.一種拉曼光譜裝置,其特征在于,包括:
第一照射源,其被配置為將照明引導(dǎo)到組織中;
另一照射源,其被配置為將額外的照明輸出到所述組織中;
熱鏡濾光器,其被配置為補(bǔ)償由所述第一照射源輸出的照明和由所述另一照射源輸出的所述額外的照明之間的照明干擾;
拉曼光譜儀,其被配置為通過(guò)所述組織散射的照明同步檢測(cè)指紋和高波數(shù)拉曼光譜;以及
計(jì)算機(jī)化控制和分析模塊,其包括至少一個(gè)處理單元和存儲(chǔ)器;所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)由所述至少一個(gè)處理單元執(zhí)行的指令,用于分析在指紋和高波數(shù)拉曼光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)檢測(cè)到的拉曼光譜的離散光譜子區(qū)間,以在一個(gè)或兩波長(zhǎng)范圍內(nèi)識(shí)別與一個(gè)或多個(gè)參考標(biāo)記的匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述拉曼光譜儀具有單個(gè)寬帶衍射光柵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述第一照射源包括用于產(chǎn)生施加到所述組織的激發(fā)能的準(zhǔn)直照射源,并且所述裝置還包括用于將準(zhǔn)直照明傳輸?shù)浇M織并將檢測(cè)到的拉曼光譜從所述組織返回到所述拉曼光譜儀的探針。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述一個(gè)或多個(gè)參考標(biāo)記包括所述檢測(cè)到的拉曼光譜中的特異性峰。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)化控制和分析模塊包括由所述至少一個(gè)處理單元執(zhí)行的指令,用于基于所述匹配來(lái)診斷異常生長(zhǎng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述探針包括共焦光纖探針。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述拉曼光譜裝置還包括具有細(xì)長(zhǎng)軸的內(nèi)窺鏡,所述細(xì)長(zhǎng)軸具有在其內(nèi)可傳送所述探針的器械通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)化控制和分析模塊包括可由所述至少一個(gè)處理單元執(zhí)行的指令,用于動(dòng)態(tài)地調(diào)整所述準(zhǔn)直照明的功率。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)化控制和分析模塊包括可由所述至少一個(gè)處理單元執(zhí)行的指令,用于動(dòng)態(tài)地調(diào)整該組織曝光于所述準(zhǔn)直照明的時(shí)間。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述拉曼光譜裝置還包括校準(zhǔn)裝置,用于相對(duì)至少一個(gè)校準(zhǔn)基準(zhǔn)來(lái)標(biāo)準(zhǔn)化所述探針或整個(gè)拉曼光譜裝置。
11.一種由拉曼光譜裝置執(zhí)行的拉曼光譜方法,其特征在于,所述方法包括:
將第一照射源輸出的照明引導(dǎo)到組織內(nèi);
在將第一照明源輸出的照明引導(dǎo)到所述組織內(nèi)的同時(shí)利用另一照射源將額外的照明指向到所述組織內(nèi);
利用熱鏡濾光器補(bǔ)償由所述第一照射源輸出的照明和由所述另一照射源輸出的所述額外的照明之間的照明干擾;
通過(guò)探針同步檢測(cè)來(lái)自該組織散射的照明的指紋和高波數(shù)拉曼光譜;以及
分析在指紋和高波數(shù)拉曼光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)檢測(cè)到的拉曼光譜中的離散光譜子區(qū)間,以識(shí)別與一個(gè)或兩個(gè)波長(zhǎng)范圍中的一個(gè)或多個(gè)參考標(biāo)記的匹配。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,同步檢測(cè)指紋和高波數(shù)拉曼光譜包括使用單個(gè)寬帶衍射光柵在指紋和高波數(shù)拉曼光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)衍射照明。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述一個(gè)或多個(gè)參考標(biāo)記是所述檢測(cè)到的拉曼光譜中的特異性峰。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述方法還包括動(dòng)態(tài)地調(diào)整所述照明的功率。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述方法還包括動(dòng)態(tài)地調(diào)整所述組織曝光于所述照明的時(shí)間。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,所述方法還包括在照明所述組織之前,相對(duì)至少一個(gè)校準(zhǔn)基準(zhǔn)執(zhí)行校準(zhǔn)或標(biāo)準(zhǔn)化程序,以標(biāo)準(zhǔn)化所述探針或整個(gè)拉曼光譜裝置。
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