[發明專利]激光光學裝置和圖像投影裝置

在審

• 申請號: 201580046064.8
• 申請日: 2015-09-07
• 公開（公告）號: CN106605163A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 長島賢治;野上豊史;伊東達也
• 申請（專利權）人: 船井電機株式會社
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G02B3/08;G02B5/04;G02B5/18;H04N5/74
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陸嘉

1.一種激光光學裝置，包括：

激光光源單元，所述激光光源單元從第一發射點射出第一激光并從與所述第一發射點不同的第二發射點射出第二激光；

偏轉元件，所述偏轉元件接收所述第一激光和所述第二激光，使所述第一激光和所述第二激光的光流當中的至少一個偏轉，并且將所述光流作為第一射出光流和第二射出光流射出；和

準直透鏡，所述準直透鏡使從所述偏轉元件射出的所述第一射出光流和所述第二射出光流成為平行光流；其中，

所述偏轉元件使所述第一激光和所述第二激光的所述光流當中的至少一個偏轉，使得在所述第一射出光流和所述第二射出光流的光軸之間形成的角度擴展為比所述第一激光和所述第二激光的光軸之間形成的角度更寬，并且所述第一射出光流的光源的虛像與所述第二射出光流的光源的虛像重疊，以及

所述偏轉元件被布置為使得所述偏轉元件和所述激光光源單元之間的距離不大于從下面的公式(1)解出的預定距離，

預定距離L1＝D1/tan(θ1/2) (1)

這里，

D1：所述第一發射點和所述第二發射點之間的距離的半值，

θ1：所述光流的擴展角。

2.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，

所述偏轉元件具有使所述第一激光和所述第二激光的光流當中的至少一個偏轉的偏轉表面，并且，

所述偏轉表面布置在比所述第一激光的光流和所述第二激光的光流重疊的位置更靠近所述激光光源單元的位置。

3.根據權利要求1或2所述的激光光學裝置，其中，所述第一發射點和所述第二發射點設置在相同的激光發射元件上。

4.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，

所述偏轉元件是透射型的并且具有使所述第一激光和所述第二激光的光流當中的至少一個偏轉的偏轉表面，并且，

所述偏轉表面設置在所述第一激光和所述第二激光入射的光入射表面側。

5.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，

所述偏轉元件是具有衍射所述第一激光的光流的第一衍射表面和衍射所述第二激光的光流的第二衍射表面的衍射光學元件，

所述第一衍射表面以根據所述第一激光的波長的間距沿作為所述第一激光和所述第二激光偏轉的方向的第一方向形成，并且具有由沿著與所述第一方向正交的第二方向延伸的多個衍射溝槽構成的第一衍射溝槽部，且

所述第二衍射表面以根據所述第二激光的波長的間距沿所述第一方向形成，并且具有由沿著所述第二方向延伸的多個衍射溝槽構成的第二衍射溝槽部。

6.根據權利要求5所述的激光光學裝置，其中，在所述第一衍射溝槽部和所述第二衍射溝槽部當中的至少一個中的所述多個衍射溝槽被構造成使得所述間距沿所述第一方向在不同位置處變化。

7.根據權利要求5或6所述的激光光學裝置，其中，在所述第一衍射溝槽部和所述第二衍射溝槽部當中的至少一個中的所述多個衍射溝槽包括槽寬沿所述第二方向逐漸變化的衍射溝槽。

8.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，所述偏轉元件是具有折射所述第一激光的光流的第一折射表面和折射所述第二激光的光流的第二折射表面的折射光學元件。

9.根據權利要求8所述的激光光學裝置，其中，D1為30μm至150μm，且θ1為5度至40度。

10.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，所述偏轉元件是具有反射所述第一激光的光流并將該光流作為所述第一射出光流而射出的第一反射表面和反射所述第二激光的光流并將該光流作為所述第二射出光流而射出的第二反射表面的反射光學元件。

11.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，所述光流的擴展角是比包括從所述第一發射點或所述第二發射點射出的激光的總光量的一半光量的激光的擴展角更大的角度。

12.根據權利要求1所述的激光光學裝置，其中，

所述偏轉元件具有：

將從所述第一發射點射出的激光引導到掃描反射鏡的第一區域和

將從所述第二發射點射出的激光引導到所述掃描反射鏡的第二區域，且

所述第一區域和所述第二區域由一條邊界線隔開。