[發(fā)明專利]投射光刻的照明光學單元的分面反射鏡有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580045812.0 | 申請日: | 2015-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN106605175B | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | M.德岡瑟;M.帕特拉 | 申請(專利權)人: | 卡爾蔡司SMT有限責任公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 邱軍;王蕊瑞 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投射 光刻 照明 光學 單元 反射 | ||
一種投射光刻的照明光學單元的分面反射鏡(11),包含多個使用分面(12),其每個反射照明光部分光束。分面反射鏡(11)具有至少一個變化子單元(161、162、163),其具有在分面承載件上共同布置的多個變化分面(12;121、121′),所述變化分面能夠替代地位于精確的一個使用分面(12)的使用位置處。這導致分面反射鏡能夠用以在操作上可靠且穩(wěn)定地設定不同的照明幾何形狀或照明設定。
相關申請的交叉引用
本專利申請要去德國專利申請DE 10 2014 216 801.5的優(yōu)先權,其內容通過引用并入本文。
技術領域
本發(fā)明關于一種投射光刻的照明光學單元的分面反射鏡(facet mirror)。此外,本發(fā)明關于包含這種分面反射鏡的照明光學單元、包含這種照明光學單元的光學系統(tǒng)以及照明系統(tǒng)、包含這種光學系統(tǒng)的投射曝光裝置、一種制造微結構或納米結構組件的方法以及由此方法制造的微結構或納米結構組件。
背景技術
從EP 1 927 892 A1、US 7,858,957 B2、US 2012/0 293 785 A1、US 6,658,084B2、DE 10 2006 014 380 A1、DE 103 17 667 A1、DE 10 2013 212 363 A1及DE 10 2012207 048 A1已知投射光刻的照明光學單元的分面反射鏡。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的為發(fā)展引言中所述類型的分面反射鏡,使得不同的照明幾何形狀或照明設定在操作上能夠可靠且穩(wěn)定地設定。
此目的根據(jù)本發(fā)明通過一種投射光刻的照明光學單元的分面反射鏡實現(xiàn)。所述分面反射鏡包含多個使用分面,其每個反射照明光部分光束;以及包含至少一個變化子單元,其具有共同布置于分面承載件上的多個變化分面,所述變化分面能夠替代地位于所述使用分面中精確的一個使用分面的使用位置處。
根據(jù)本發(fā)明,已認識到于變化子單元(change subunit)的共同分面承載件(common facet carrier)上容納多個變化子單元的結果為有可能實現(xiàn)各使用分面的穩(wěn)定且操作上可靠的定位。不同變化子單元間的交換(如EP 1 927 892 A1中所討論)將被排除。使用分面在其成像特性和/或其方向影響特性和/或其他參數(shù)上可不相同。特別地,結果為可熱承載的分面反射鏡(thermally loadable facet mirror)。變化子單元的數(shù)量可剛好等于使用分面布置的線數(shù)量。或者,若只有使用分面布置的一部分預期會配備有可變化的使用分面,則也可提供較小數(shù)量的變化子單元。變化子單元可具有單獨分配的位移致動器。變化子單元的位移確保針對該變化子單元的變化分面,只有一個使用分面改變,其接著變成替代的使用分面。所有其他使用分面的定位維持不變,不受該變化子單元的位移的影響。
可通過變化子單元改變的使用分面與不屬于此變化子單元的鄰近使用分面之間的距離至多可為2毫米。在可通過變化子單元改變的使用分面與不屬于此變化子單元的使用分面間的該距離的方向上,鄰近使用分面可具有至少為此距離5倍的范圍,使得該距離的最大值因此為此使用分面的范圍的20%。這使得實現(xiàn)分面反射鏡的所有使用分面實際上不間斷的封裝(uninterrupted packing)。
根據(jù)本發(fā)明,變化子單元在線方向上包含至少一個分面線,其中變化分面沿所述分面線布置,其中分面反射鏡的使用分面關于所述分面線的線方向橫向布置。這樣,可沿變化子單元的分面線(facet line)提供實際上無限數(shù)量的變化分面。在各個情況下使用不同的使用分面的可預定義的照明設定的數(shù)量可相當大。沿著分面線,變化子單元可以可線性位移的方式實施。
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