[發(fā)明專利]膠態(tài)氧化硅化學-機械拋光組合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580045158.3 | 申請日： | 2015-06-25 |
| 公開（公告）號： | CN107075343B | 公開（公告）日： | 2019-06-28 |
| 發(fā)明（設計）人： | S.格拉賓;J.戴薩德;沈忠良;M.卡瓦諾 | 申請（專利權(quán)）人： | 嘉柏微電子材料股份公司 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 化學 機械拋光 組合 | ||
1.化學機械拋光組合物，包含：
基于水的液體載劑；
分散在該液體載劑中的膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒；
結(jié)合到所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的外表面的內(nèi)部的化學物質(zhì)，其中所述化學物質(zhì)為含氮化合物或含磷化合物；
在3.5至6范圍內(nèi)的pH值；
其中所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有至少15毫伏的永久性正電荷；以及
其中所述化學物質(zhì)不是氨基硅烷或鏻硅烷。
2.化學機械拋光組合物，包含：
基于水的液體載劑；
分散在該液體載劑中的膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒；
結(jié)合到所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的外表面的內(nèi)部的化學物質(zhì)，其中所述化學物質(zhì)為含氮化合物或含磷化合物；
在1.5至7范圍內(nèi)的pH值；
其中所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有至少13毫伏的永久性正電荷；以及
其中氨基硅烷化合物與所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的外表面發(fā)生鍵合。
3.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有至少15毫伏的永久性正電荷。
4.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，具有在3.5至6范圍內(nèi)的pH值。
5.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，進一步包含緩沖劑，該緩沖劑具有在3.5至5.5范圍內(nèi)的pKa。
6.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有在30納米至70納米范圍內(nèi)的平均粒徑。
7.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有在40納米至60納米范圍內(nèi)的平均粒徑。
8.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，包含0.5重量％至4重量％的所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒。
9.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，包含小于3重量％的所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒。
10.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的30％或更高包括三個或更多個聚集的初級顆粒。
11.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的50％或更高包括三個或更多個聚集的初級顆粒且所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒的20％或更高為單體或二聚體。
12.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒包括初級顆粒且所述初級顆粒的95％或更高具有在15納米至35納米范圍內(nèi)的初級粒徑。
13.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，該化學物質(zhì)不為銨。
14.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，該化學物質(zhì)包含伯胺、仲胺、叔胺、或季胺化合物。
15.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，該化學物質(zhì)包含氨基酸。
16.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，該化學物質(zhì)包含1至6個碳原子。
17.權(quán)利要求16的組合物，其中，該化學物質(zhì)包含乙氧基丙胺、氫氧化四甲基銨、或乙二胺。
18.權(quán)利要求1-2中任一項的組合物，其中，所述膠態(tài)氧化硅研磨劑顆粒具有核-殼結(jié)構(gòu)，其中外殼設置于內(nèi)核上面，所述化學物質(zhì)結(jié)合到所述外殼中。
19.權(quán)利要求18的組合物，其中，該外殼具有至少1納米的厚度。
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