[發(fā)明專利]切斷的光學膜的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580044344.5 | 申請日： | 2015-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN106661247B | 公開（公告）日： | 2020-03-20 |
| 發(fā)明（設計）人： | 三浦拓也 | 申請（專利權）人： | 日本瑞翁株式會社 |
| 主分類號： | C08J5/18 | 分類號： | C08J5/18;C08L45/00;B32B25/16;B32B27/36;B32B27/00;B32B25/08;B32B27/20;B32B27/32;B23K26/38;B32B27/08;B32B27/22;B32B27/30;G02B5/30;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 邵秋雨;趙曦 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 切斷 光學 制造 方法 | ||
1.一種切斷的光學膜的制造方法，
包括對光學膜照射CO2激光來切斷所述光學膜的工序，
所述光學膜具有：
包含環(huán)狀烯烴聚合物和酯化合物、且所述酯化合物的比例為0.1重量％～10重量％的烯烴樹脂層，以及
設置在所述烯烴樹脂層雙面的覆蓋層，
所述覆蓋層是由含環(huán)狀烯烴聚合物的熱塑性樹脂而形成的，
該光學膜在9μm～11μm的波長范圍的光的平均吸收率為0.1％以上。
2.根據權利要求1所述的制造方法，其中，所述環(huán)狀烯烴聚合物的分子不含極性基團。
3.根據權利要求1或2所述的制造方法，所述光學膜的飽和吸水率為0.05％以下。
4.根據權利要求1或2所述的制造方法，其中，所述酯化合物在其分子中含有芳香環(huán)。
5.根據權利要求3所述的制造方法，其中，所述酯化合物在其分子中含有芳香環(huán)。
6.根據權利要求1、2、5中任一項所述的制造方法，其中，所述覆蓋層不含酯化合物。
7.根據權利要求3所述的制造方法，其中，所述覆蓋層不含酯化合物。
8.根據權利要求4所述的制造方法，其中，所述覆蓋層不含酯化合物。
9.根據權利要求1、2、5、7、8中任一項所述的制造方法，其中，所述覆蓋層中的所述環(huán)狀烯烴聚合物的分子不含極性基團。
10.根據權利要求3所述的制造方法，其中，所述覆蓋層中的所述環(huán)狀烯烴聚合物的分子不含極性基團。
11.根據權利要求4所述的制造方法，其中，所述覆蓋層中的所述環(huán)狀烯烴聚合物的分子不含極性基團。
12.根據權利要求6所述的制造方法，其中，所述覆蓋層中的所述環(huán)狀烯烴聚合物的分子不含極性基團。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日本瑞翁株式會社，未經日本瑞翁株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580044344.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
