[發(fā)明專利]使用光束的增材制造方法和系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580044020.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-08-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106660123B | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 哈維爾·迪亞斯;赫蘇斯·多明格斯;保拉·桑喬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 艾西塔股份公司 |
| 主分類號(hào): | B22F3/105 | 分類號(hào): | B22F3/105;B33Y10/00;B29C64/386;B33Y30/00;B29C64/153;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 趙丹 |
| 地址: | 西班牙*** | 國(guó)省代碼: | 西班牙;ES |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 光束 制造 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種用于生產(chǎn)物體的方法,所述方法包括以下步驟:
a)供應(yīng)建造材料;以及
b)使用光束(2)熔合所述建造材料;
其中,執(zhí)行步驟a)和b),以便用熔合的建造材料逐步地生產(chǎn)所述物體;
其中,在步驟b)中,所述光束(2)被投射到所述建造材料上,以便在所述建造材料上產(chǎn)生主光斑(2A),根據(jù)第一掃描圖案在二維上重復(fù)掃描所述光束以便在所述建造材料上構(gòu)建有效光斑(21),所述有效光斑具有二維能量分布,
其中,所述有效光斑(21)相對(duì)于正被生產(chǎn)的物體移位,以通過(guò)熔合所述建造材料逐步地生產(chǎn)所述物體,以及
其中,在所述有效光斑(21)相對(duì)于正被生產(chǎn)的物體移位期間,動(dòng)態(tài)調(diào)整所述有效光斑(21)的二維能量分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述有效光斑(21)沿著軌跡移位期間,動(dòng)態(tài)調(diào)整所述有效光斑(21)的二維能量分布,以使所述有效光斑(21)的寬度適于正被生產(chǎn)的物體的一部分的相應(yīng)尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,通過(guò)調(diào)節(jié)所述光束(2)的功率,來(lái)執(zhí)行所述有效光斑(21)的二維能量分布的調(diào)整。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中,通過(guò)選擇性地打開和關(guān)閉所述光束,來(lái)執(zhí)行所述有效光斑(21)的二維能量分布的調(diào)整。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,通過(guò)調(diào)整所述第一掃描圖案執(zhí)行所述有效光斑(21)的二維能量分布的調(diào)整。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,通過(guò)調(diào)節(jié)所述主光斑(2A)沿所述第一掃描圖案的至少一部分移動(dòng)的速度,執(zhí)行所述有效光斑(21)的二維能量分布的調(diào)整。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,在所述主光斑(2A)沿所述第一掃描圖案移位期間,和/或在所述有效光斑(21)相對(duì)于正被生產(chǎn)的物體移位期間,動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)所述光束的焦點(diǎn)和/或主光斑的尺寸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,在所述方法的至少一個(gè)階段中,
所述有效光斑(21)包括具有比所述有效光斑的后部更高能量密度的前部;或
所述有效光斑(21)包括具有比所述有效光斑的后部更低能量密度的前部;或
所述有效光斑(21)包括具有比所述有效光斑的前部(21A)和后部(21C)更高能量密度的中間部分(21B);或
所述有效光斑的特征為在整個(gè)有效光斑上具有基本恒定的能量密度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,所述主光斑(2A)沿所述第一掃描圖案的平均速度基本高于所述有效光斑(21)相對(duì)于正被生產(chǎn)的物體移位的平均速度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,根據(jù)所述第一掃描圖案掃描所述光束,以便光束以大于10Hz的頻率重復(fù)所述第一掃描圖案。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中,根據(jù)所述第一掃描圖案掃描所述光束,以便光束以大于25Hz的頻率重復(fù)所述第一掃描圖案。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,根據(jù)所述第一掃描圖案掃描所述光束,以便光束以大于100Hz的頻率重復(fù)所述第一掃描圖案。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,所述有效光斑(21)的尺寸超過(guò)所述主光斑尺寸的4倍。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中,所述有效光斑(21)的尺寸超過(guò)所述主光斑尺寸的10倍。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,所述有效光斑(21)的尺寸超過(guò)所述主光斑尺寸的25倍。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于艾西塔股份公司,未經(jīng)艾西塔股份公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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