[發明專利]金屬材料的處理裝置

有效

• 申請號: 201580043271.8
• 申請日: 2015-08-11
• 公開（公告）號: CN107148323B
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發明（設計）人: 白川直樹;村田和廣
• 申請（專利權）人: 獨立行政法人產業技術綜合研究所
• 主分類號: B22F3/10
• 分類號: B22F3/10;B22F1/00;H01L21/288;H01B13/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 吳宗頤

1.金屬材料的處理裝置，其具有：

內部收納樣品的密閉容器，

從由該密閉容器排出的氣體抽出氧分子的氧泵，

將該氣體返回該密閉容器中的循環裝置，和

處于該密閉容器內、將從該循環裝置返回的該氣體進行等離子體化，照射該樣品的等離子體化裝置，

該等離子體化裝置是在0.1個氣壓以上且小于10個氣壓的壓力下在密閉容器內使用的大氣壓等離子體裝置，

所述大氣壓等離子體裝置具有電壓施加裝置(43)和配管(42)，在該配管(42)的出口附近具有面對面的電極(41a、41b)，具有通過從配管(42)的出口噴出的氣流向樣品吹噴在兩個電極間產生的等離子體(44)的構成，或者

所述大氣壓等離子體裝置在與配管(42)的排出口不同的位置具有高頻高電壓的施加裝置，具有通過氣流向樣品吹噴由電磁感應產生的等離子體的構成，

進而，所述金屬材料的處理裝置具有將所述排出的氣體再次返回到氧泵的封閉環的構成。

2.金屬材料的處理裝置，其具有：

內部收納樣品的密閉容器，

從由該密閉容器排出的氣體抽出氧分子的氧泵，

將該氣體返回該密閉容器中的循環裝置，

將從該循環裝置返回的該氣體加熱的加熱器，和

處于該密閉容器內、將從該循環裝置返回的該氣體進行等離子體化，照射該樣品的等離子體化裝置，

該等離子體化裝置是在0.1個氣壓以上且小于10個氣壓的壓力下在密閉容器內使用的大氣壓等離子體裝置，

所述大氣壓等離子體裝置具有電壓施加裝置(43)和配管(42)，在該配管(42)的出口附近具有面對面的電極(41a、41b)，具有通過從配管(42)的出口噴出的氣流向樣品吹噴在兩個電極間產生的等離子體(44)的構成，或者

所述大氣壓等離子體裝置在與配管(42)的排出口不同的位置具有高頻高電壓的施加裝置，具有通過氣流向樣品吹噴由電磁感應產生的等離子體的構成，

進而，所述金屬材料的處理裝置具有將所述排出的氣體再次返回到氧泵的封閉環的構成。

3.權利要求1或2所述的裝置，其中，在上述密閉容器內具有用于保持上述樣品的樣品臺。

4.權利要求3所述的裝置，其中，上述樣品臺具備加熱樣品的加熱器。

5.權利要求1或2所述的裝置，其中，上述循環裝置將從上述密閉容器排出的氣體加壓而返回到該密閉容器中。

6.權利要求1或2所述的裝置，其中，上述金屬材料為金屬或金屬化合物的微粒。

7.權利要求1或2所述的裝置，其能夠進行上述金屬材料的燒結和還原、或者燒結或還原。

8.權利要求1或2所述的裝置，其中，構成上述金屬材料的金屬為銅。

9.權利要求1或2所述的裝置，其中，上述氣體含有氮氣。

10.權利要求1或2所述的裝置，其中，返回上述密閉容器內的氣體中的氧分壓為10^-25氣壓以下。

11.權利要求1或2所述的裝置，其中，上述氧泵具備具有氧離子傳導性的固體電解質體以及配設在其內側和外側的電極。

12.權利要求11所述的裝置，其中，上述固體電解質體為穩定化氧化鋯制。

13.權利要求11所述的裝置，其中，上述電極為沿著固體電解質體的表面設置的多孔質電極。