[發明專利]干涉儀

有效

• 申請號: 201580043188.0
• 申請日: 2015-08-19
• 公開（公告）號: CN106716088B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 馬丁·貝爾茨
• 申請（專利權）人: 馬丁·貝爾茨
• 主分類號: G01J3/45
• 分類號: G01J3/45;G01J9/02;G01B9/02;G01B11/24
• 代理公司: 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387
• 代理人: 劉春成;榮紅穎

1.一種干涉儀(100)，包括：

第一干涉儀臂(150)；及

第二干涉儀臂(152)，

其中，所述第一干涉儀臂(150)及第二干涉儀臂(150)被配置成：

從待成像的原始圖像(156)的中心像點(154)出發的第一中心光束(112)穿過所述第一干涉儀臂(150)，

從所述待成像的原始圖像(156)的所述中心像點(154)出發的第二中心光束(118)穿過所述第二干涉儀臂(152)，

其中，所述第一中心光束(112)與所述第二中心光束(118)在穿過所述第一或第二干涉儀臂(150、152)之后疊加并在所述第一中心光束(112)與所述第二中心光束(118)的疊加點(157)處生成k_垂直＝0-干涉,其中，k_垂直＝0-干涉是第一中心光束(112)和第二中心光束(118)的干涉，其中第一中心光束(112)和第二中心光束(118)的波矢具有相同的方向；

從待成像的原始圖像(156)的像點(158)出發的第一光束(160)穿過所述第一干涉儀臂(150)，以及

從所述待成像的原始圖像(156)的所述像點(158)出發的第二光束(162)穿過所述第二干涉儀臂(152)，

其中，所述第一光束(160)與所述第二光束(162)在穿過所述第一或第二干涉儀臂(150、152)之后重疊于所述第一中心光束(112)與所述第二中心光束(118)的所述疊加點(157)處，以及

其中，在所述疊加點(157)處，所述第一光束(160)垂直于所述第一中心光束(112)的波矢分量(164)與所述第二光束(162)垂直于所述第二中心光束(118)的波矢分量(166)相反。

2.根據權利要求1所述的干涉儀(100)，

其特征在于，

在所述疊加點(157)處，所述第一光束(160)垂直于所述第一中心光束(112)的波矢分量(164)與所述第二光束(162)垂直于所述第二中心光束(118)的波矢分量(166)大小相等。

3.根據權利要求1或2所述的干涉儀(100)，

進一步包括檢測器(125)，其中，所述疊加點(157)位于所述檢測器(125)的檢測面(126)上。

4.根據權利要求1所述的干涉儀(100)，

其中，所述第一干涉儀臂(150)具有第一光束偏轉元件(104)及第三光束偏轉元件(108)；并且

其中，所述第二干涉儀臂(152)具有第二光束偏轉元件(106)及第四光束偏轉元件(110)，

其中，所述第一中心光束(112)或所述第一光束(160)在所述第一干涉儀臂(150)中入射到所述第一光束偏轉元件(104)并隨后入射到所述第三光束偏轉元件(108)上；以及所述第二中心光束(118)或所述第二光束(162)在所述第二干涉儀臂(152)中入射到所述第二光束偏轉元件(106)上并隨后入射到所述第四光束偏轉元件(110)上。

5.根據權利要求4所述的干涉儀(100)，

其特征在于，

所述第一光束偏轉元件(104)、所述第三光束偏轉元件(108)、所述第二光束偏轉元件(106)及第四光束偏轉元件(110)的組合中的至少一個具有至少一個衍射光學元件(DOE)，特別是光柵，和/或具有至少一個第一電介質。