[發明專利]由產生凹場線的磁場發生裝置制成的光學效應層的場內硬化方法有效
| 申請號： | 201580040898.8 | 申請日： | 2015-07-09 |
| 公開（公告）號： | CN106573271B | 公開（公告）日： | 2020-07-21 |
| 發明（設計）人： | E·洛吉諾夫;M·施密德;C-A·德斯普蘭;P·德格特 | 申請（專利權）人： | 錫克拜控股有限公司 |
| 主分類號： | B05D3/00 | 分類號： | B05D3/00;B05D5/06 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 產生 凹場線 磁場 發生 裝置 制成 光學 效應 場內 硬化 方法 | ||
【權利要求書】：
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