[發(fā)明專利]抗蝕劑上層膜形成用組合物和使用它的半導(dǎo)體裝置的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580040881.2 | 申請(qǐng)日： | 2015-07-23 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106575082B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-09-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 藤谷德昌;遠(yuǎn)藤貴文;坂本力丸 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/11 | 分類號(hào)： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人： | 孫麗梅;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 抗蝕劑 上層 形成 組合 使用 半導(dǎo)體 裝置 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
