[發明專利]保護膜、膜層疊體及偏光板

有效

• 申請號: 201580040815.5
• 申請日: 2015-08-13
• 公開（公告）號: CN107075058B
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 村田力;鈴木雅康;桑原將臣;后藤誠;村田亮;加藤昌央
• 申請（專利權）人: 株式會社巴川制紙所
• 主分類號: C08F299/06
• 分類號: C08F299/06;C08J7/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶;陳彥

1.一種保護膜，其特征在于，是由重復單元形成的保護膜，所述重復單元為下述通式(1)所示的結構，

通式(1)中，R¹表示支鏈狀烷基，R²表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基團，R³表示氫原子或甲基，R⁴表示氫原子、甲基或乙基，m表示0以上的整數，x表示0～3的整數。

2.一種保護膜，其特征在于，是由重復單元形成的保護膜，所述重復單元為下述通式(2)所示的結構，

通式(2)中，R¹表示支鏈狀烷基，R²表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基團，R³表示氫原子或甲基，R⁴表示氫原子、甲基或乙基，n表示1以上的整數，x表示0～3的整數。

3.一種保護膜，其特征在于，是由重復單元形成的保護膜，所述重復單元為下述通式(3)所示的結構，

通式(3)中，R¹表示支鏈狀烷基，R²表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基團，R³表示氫原子或甲基，R⁴表示氫原子、甲基或乙基，m表示0以上的整數，x表示0～3的整數。

4.一種保護膜，其特征在于，是由重復單元形成的保護膜，所述重復單元為下述通式(4)所示的結構，

通式(4)中，R¹表示支鏈狀烷基，R²表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基團，R³表示氫原子或甲基，R⁴表示氫原子、甲基或乙基，n表示1以上的整數，x表示0～3的整數。

5.根據權利要求1或3所述的保護膜，其特征在于，所述m為1或2。

6.根據權利要求2或4所述的保護膜，其特征在于，所述n為1或2。

7.根據權利要求1～4中任一項所述的保護膜，其特征在于，所述R¹為具有2個以上支鏈的烷基。

8.根據權利要求1或2所述的保護膜，其特征在于，所述R¹為三甲基六亞甲基。

9.根據權利要求1～4中任一項所述的保護膜，其特征在于，透濕度為100g/(m²·24小時)以下，且拉伸強度為25MPa以上。

10.根據權利要求1～4中任一項所述的保護膜，其特征在于，含有紫外線吸收劑。

11.根據權利要求1～4中任一項所述的保護膜，其特征在于，是使樹脂組合物固化而得到的保護膜，所述樹脂組合物至少含有所述作為單體的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和具有有機反應基團的反應性硅溶膠，

該保護膜的表面經過等離子體處理或電暈處理。

12.一種膜層疊體，其特征在于，在權利要求1～11中任一項所述的保護膜的至少一個面上具備下述中的任一個：

(1)支撐所述保護膜的膜基材、

(2)具有耐擦傷性的硬涂層、

(3)使光散射的防眩層、以及

(4)由設置在所述保護膜上的高折射率層和設置在所述高折射率層上的低折射率層構成的防反射層。

13.一種偏光板，其特征在于，在偏光膜的至少一面上具備權利要求1～11中任一項所述的保護膜。