[發明專利]吡唑衍生物的制造方法

在審

• 申請號: 201580040364.5
• 申請日: 2015-07-29
• 公開（公告）號: CN107074845A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 佐藤勉;工藤高志;巖間哲男
• 申請（專利權）人: 持田制藥株式會社
• 主分類號: C07D471/04
• 分類號: C07D471/04;C07D213/73;C07D401/14;C07D403/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 郭煜,魯煒

1.制造下述式(I)的化合物的方法，所述方法包括下述階段：

在0℃至反應溶液回流的溫度下使式(ET-1)所示的化合物和氨水溶液進行反應，得到式(AD-1)所示的化合物，

接著，在N,N-二甲基-1,2-乙二胺、碘化亞銅、以及選自碳酸鉀、磷酸鉀中的無機堿的存在下，使用選自1,4-二噁烷、四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷中的不參與反應的溶劑，在0℃至溶劑回流的溫度下使式(AD-1)、和式(PY-1)所示的2-氨基-4-碘吡啶衍生物進行反應，得到式(AD-2)所示的化合物，

接著，使用選自二甲基亞砜和吡啶中的不參與反應的溶劑，在0℃至溶劑回流的溫度下使式(AD-2)、以及式(IM-1)所示的化合物、或其鹽進行反應，得到式(AD-3)所示的化合物，

接著，在選自碘化亞銅(CuI)或氯化亞銅(CuCl)中的銅試劑的存在下，使用選自二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮中的不參與反應的溶劑，在存在空氣的情況下，在0℃至溶劑回流的溫度下使式(AD-3)進行環化反應，

由此，得到所述式(I)所示的化合物，

[化學式176]

[式(I)中，p表示0~3的整數；q表示0~2的整數；R¹各自獨立地表示任意地選自鹵素原子、氰基、C_1~6烷基、C_3~8環烷基、鹵代C_1~6烷基、C_2~6烯基、C_1~6烷氧基、C_1~6烷氧基C_1~6烷基、羥基C_1~6烷基、和C_2~7烷酰基中的基團；R²表示C_1~6烷基；R³表示任意地選自氫原子和氟原子中的基團；R⁴各自獨立地表示任意地選自鹵素原子、C_1~6烷基、和C_1~6烷氧基中的基團；

[化學式177]

式(II)所示的環A基表示任意地選自噻唑-2-基、噻唑-4-基、1-甲基-1H-咪唑-4-基、1,3,4-噻二唑-2-基、1,2,4-噻二唑-5-基、吡啶-2-基、噠嗪-3-基、嘧啶-2-基、嘧啶-4-基、和吡嗪-2-基中的單環式5~6元雜芳基]；

[化學式178]

[式(ET-1)中，p、R¹、R²、和式(II)所示的環A基表示與權利要求1的式(I)中的定義相同的含義；R^D表示任意地選自C_1~6烷基、C_6~14芳基和C_7~20芳烷基中的基團]；

[化學式179]

[式(AD-1)中，p、R¹、R²和式(II)所示的環A基與權利要求1的式(I)中的定義相同]；

[化學式180]

[式(PY-1)中，R³表示任意地選自氫原子和氟原子中的基團]；

[化學式181]

[式(AD-2)中，p、R¹、R²、R³、和式(II)所示的環A基與權利要求1的式(I)中的定義相同]；

[化學式182]

[式(IM-1)中，q、R⁴與權利要求1的式(I)中的定義相同；R^B表示C_1~6烷基]；

[化學式183]

[式(AD-3)中，p、q、R¹、R²、R³、R⁴、和式(II)所示的環A基與權利要求1的式(I)中的定義相同]。