[發(fā)明專利]用于使基底表面經(jīng)受連續(xù)表面反應(yīng)的噴嘴頭、裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580039948.0 | 申請日: | 2015-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN106661731B | 公開(公告)日: | 2019-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | P·索伊尼寧;M·瑟德隆德;J·佩爾托涅米 | 申請(專利權(quán))人: | BENEQ有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/54 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 王其文 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 基底 表面 經(jīng)受 連續(xù) 反應(yīng) 噴嘴 裝置 方法 | ||
1.一種用于使基底(6)的表面(8)經(jīng)受至少第一前驅(qū)體(A)和第二前驅(qū)體(B)的連續(xù)表面反應(yīng)的噴嘴頭(2),所述噴嘴頭(2)具有輸出面(3),所述輸出面包括:
-一個或多個前驅(qū)體噴嘴(22;21、23),所述一個或多個前驅(qū)體噴嘴布置成將所述第一前驅(qū)體(A)和所述第二前驅(qū)體(B)供應(yīng)到所述基底(6)的表面(8);和
-至少兩個排放通道(24),所述至少兩個排放通道用于將前驅(qū)體(A、B)從所述基底(6)的表面(8)排放,
所述輸出面(3)按以下順序包括:
排放通道(24)、布置成供應(yīng)所述第一前驅(qū)體(A)和所述第二前驅(qū)體(B)的至少一個前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)、和排放通道(24),
其特征在于,所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)按以下順序連續(xù)且鄰近地包括:排放通道(24)、布置成供應(yīng)所述第一前驅(qū)體(A)和第二前驅(qū)體(B)的至少一個前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)、和排放通道(24),并且重復(fù)一次或多次以形成兩個或更多個反應(yīng)區(qū)域(X、Y、Z)。
2.如權(quán)利要求1所述的噴嘴頭(2),其特征在于,所述輸出面(3)按以下順序包括:
-排放通道(24)、布置成供應(yīng)所述第一前驅(qū)體(A)的第一前驅(qū)體噴嘴(21)、布置成供應(yīng)所述第二前驅(qū)體(B)的第二前驅(qū)體噴嘴(23)、和排放通道(24);或
-排放通道(24)、布置成供應(yīng)第一前驅(qū)體(A)的第一前驅(qū)體噴嘴(21)、布置成供應(yīng)第二前驅(qū)體(B)的第二前驅(qū)體噴嘴(23)、布置成供應(yīng)所述第一前驅(qū)體(A)的第一前驅(qū)體噴嘴(21)、和排放通道(24);或
-排放通道(24)、布置成供應(yīng)所述第一前驅(qū)體(A)和第二前驅(qū)體(B)兩者的共用的前驅(qū)體噴嘴(22)、和排放通道(24)。
3.如權(quán)利要求1所述的噴嘴頭(2),其特征在于,所述噴嘴頭(2)包括:
-延伸到第一前驅(qū)體噴嘴(21)并且布置成將第一前驅(qū)體(A)輸送到所述第一前驅(qū)體噴嘴(21)的第一前驅(qū)體管道(27)、和延伸到第二前驅(qū)體噴嘴(23)并且布置成將第二前驅(qū)體(B)輸送到所述第二前驅(qū)體噴嘴(23)的第二前驅(qū)體管道(29);或
-延伸到共用的前驅(qū)體噴嘴(22)并且布置成將所述第一前驅(qū)體(A)和第二前驅(qū)體(B)兩者輸送到所述共用的前驅(qū)體噴嘴(22)的前驅(qū)體管道(28);或
-延伸到共用的前驅(qū)體噴嘴(22)并且布置成將第一前驅(qū)體(A)輸送到所述共用的前驅(qū)體噴嘴(22)的第一前驅(qū)體管道(27)、和延伸到所述共用的前驅(qū)體噴嘴(22)并且布置成將第二前驅(qū)體(B)輸送到所述共用的前驅(qū)體噴嘴(22)的第二前驅(qū)體管道(29)。
4.如權(quán)利要求1所述的噴嘴頭(2),其特征在于:
-所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的縱向通道;或
-所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的縱向通道,并且所述排放通道(24)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的縱向通道;或
-所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的縱向通道,并且所述排放通道(24)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的縱向通道,所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)和所述排放通道(24)在所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)中大體上平行地延伸,用于在兩個連續(xù)的排放通道(24)之間提供反應(yīng)區(qū)域(X、Y、Z)。
5.如權(quán)利要求3所述的噴嘴頭(2),其特征在于:
-所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的中央前驅(qū)體噴嘴;或
-所述前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的中央前驅(qū)體噴嘴,且所述排放通道(24)是開口到所述輸出面(3)并圍繞共用的中央前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)的周緣通道;或
-所述排放通道(24)中的至少一個是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的中央通道;或
-所述排放通道(24)中的至少一個是開口到所述噴嘴頭(2)的輸出面(3)的中央排放通道,且共用的前驅(qū)體噴嘴(22;21、23)中的至少一個是開口到所述輸出面(3)并且圍繞所述中央排放通道(24)的周緣通道。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





