[發明專利]浸沒式光刻設備和器件制造方法有效
| 申請號： | 201580039206.8 | 申請日： | 2015-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN106537257B | 公開（公告）日： | 2019-12-31 |
| 發明（設計）人： | T·W·波勒特;J·J·M·巴塞曼斯;W·J·鮑曼;H·H·A·勒姆蓬斯;T·M·莫德曼;C·M·洛普斯;B·斯密茲;K·斯蒂芬斯;R·范德漢姆 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11256 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 王茂華;呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 浸沒 光刻 設備 器件 制造 方法 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司，未經ASML荷蘭有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580039206.8/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：光刻設備和器件制造方法
- 下一篇：鐘表輪副
