[發明專利]光刻設備和器件制造方法有效
| 申請號： | 201580038638.7 | 申請日： | 2015-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN106537256B | 公開（公告）日： | 2019-12-27 |
| 發明（設計）人： | G·納齊博格魯;F·J·J·范鮑克斯臺爾;T·P·H·沃馬丹;J·S·C·維斯特爾拉肯;J·P·科洛斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11021 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 張啟程 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 器件 制造 方法 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司，未經ASML荷蘭有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580038638.7/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：用于LCD的彩色濾光片的蒽醌化合物
- 下一篇：浸沒式光刻設備和器件制造方法
