[發(fā)明專利]井底工具在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580037463.8 | 申請日: | 2015-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN107109921A | 公開(公告)日: | 2017-08-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·帕克 | 申請(專利權(quán))人: | D·帕克 |
| 主分類號: | E21B47/002 | 分類號: | E21B47/002;E21B47/017 |
| 代理公司: | 北京市鑄成律師事務(wù)所11313 | 代理人: | 郝文博,李夠生 |
| 地址: | 澳大利亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 井底 工具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于鉆孔的勘測工具。
本發(fā)明已經(jīng)被特別地設(shè)計(jì)成涉及(但不一定僅涉及)用于勘測井的工具,更確切地說,涉及包括清洗工具和攝像機(jī)的井底勘測工具。
背景技術(shù)
背景技術(shù)的以下討論意在僅促進(jìn)對本發(fā)明的理解。該討論并非確定或承認(rèn)所引用的任何材料現(xiàn)在或曾經(jīng)是在本申請的優(yōu)先權(quán)之日時(shí)公知常識(shí)的一部分。
井噴(也稱作井涌)可能會(huì)引起災(zāi)難事件。此類事件的實(shí)例是2010年4月20日發(fā)生的英國石油公司的環(huán)境災(zāi)難。
井噴是碳?xì)浠衔飶木牟皇芸氐尼尫拧Mǔ6裕瑖姵鲈诰兴膲毫刂葡到y(tǒng)失效之后發(fā)生。
目前,井包括用以避免噴出的防噴器(BOP)。BOP控制井內(nèi)的壓力和碳?xì)浠衔锏牧鲃?dòng),并且避免工具和鉆井部件被射出井外。
重要的是,對井的內(nèi)部進(jìn)行常規(guī)測試,并且確切地說對BOP進(jìn)行常規(guī)測試。例如,BOP包括可能被諸如泥漿、水泥或金屬殘?jiān)辰Y(jié)的剪切機(jī)和填料密封件。這可能會(huì)使得BOP不工作。這些密封件的定期檢查和清洗對于確保BOP的正確運(yùn)行是至關(guān)重要的。
常規(guī)測試包括對包括在井中的設(shè)備且特別是BOP的視覺檢查。進(jìn)行視覺檢查的原因之一是能夠?qū)㈦s質(zhì)的位置和構(gòu)造視覺化。將雜質(zhì)的位置及其構(gòu)造視覺化容許在雜質(zhì)所在的特定位置處應(yīng)用清洗方法。這使得清洗方法更加高效。
常見勘測工具的特定缺點(diǎn)在于,使用這些常見工具的檢查和清洗方法繁瑣且耗時(shí)。這尤其是因?yàn)樗龇椒ㄐ枰褂脝为?dú)被部署在井中的眾多鉆柱工具。舉例來說,通常而言,一開始要將噴射清洗工具部署到立管中。該工具對井的內(nèi)部且特別是BOP進(jìn)行清洗。在該特定清洗方法完成之后,將噴射清洗工具從井移除并且將常見的井底攝像機(jī)插入井中用于對井的內(nèi)部及其設(shè)備進(jìn)行檢查。
遺憾的是,在許多情況下,由清洗工具執(zhí)行的清洗方法可能沒有適當(dāng)?shù)爻ニ须s質(zhì);在這種情況下,需要使用噴射清洗工具對井的內(nèi)部進(jìn)行進(jìn)一步清洗。為此,需要從井中拉出勘測工具以便將清洗工具重新部署到井中以進(jìn)一步清洗井。這對鉆井活動(dòng)增加了額外的成本。
目前,存在結(jié)合了用于將清洗流體排放到井中的排放口的勘測工具。這允許在對井的內(nèi)部以及定位在井中的設(shè)備進(jìn)行檢查之前除去雜質(zhì)的某些部分。
然而,流體的排放并不足以對井的內(nèi)部以及定位在井中的設(shè)備進(jìn)行適當(dāng)?shù)厍逑础D壳埃m當(dāng)清洗僅可使用噴射清洗工具執(zhí)行。
本發(fā)明就是在這種背景下提出的。
發(fā)明概要
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供一種附接至鉆柱的勘測工具,所述鉆柱用于將所述勘測工具插入到鉆孔中,所述勘測工具包括:外殼,其具有被調(diào)適用于附接至鉆柱的近端和橫穿所述外殼的被調(diào)適用于從鉆柱接收流體的孔;以及被調(diào)適成接收在所述孔內(nèi)的活塞,所述活塞被調(diào)適成在至少第一狀態(tài)與第二狀態(tài)之間選擇性地移位,其中在所述第一狀態(tài)下,流體在第一位置處離開所述外殼,并且在所述第二狀態(tài)下,流體在第二位置處離開所述外殼。
優(yōu)選地,活塞被調(diào)適成在第一狀態(tài)、第二狀態(tài)與另一第三狀態(tài)之間選擇性地移位。
優(yōu)選地,在第三狀態(tài)下,流體在第三位置處離開外殼,所述第三位置允許流體離開外殼以對鉆孔進(jìn)行沖洗。
優(yōu)選地,第一位置包括外殼的容許流體離開外殼以便對鉆孔的側(cè)壁或包含在鉆孔中的設(shè)備進(jìn)行壓力噴射的側(cè)面。
優(yōu)選地,第二位置包括位于外殼的遠(yuǎn)端處的位置。
優(yōu)選地,外殼的遠(yuǎn)端被調(diào)適用于接收攝像機(jī)。
優(yōu)選地,第二位置鄰近所述遠(yuǎn)端以便遞送流體至攝像機(jī)以便對攝像機(jī)進(jìn)行清洗和/或冷卻。
優(yōu)選地,外殼包括用以允許流體離開外殼的多個(gè)開口組合。
優(yōu)選地,外殼包括第一組高壓噴射通道,所述通道橫穿外殼的側(cè)面以允許對鉆孔的側(cè)壁或包含在鉆孔中的設(shè)備進(jìn)行壓力噴射。
優(yōu)選地,外殼包括第二組前方噴射通道,所述通道橫穿外殼的遠(yuǎn)端以允許對攝像機(jī)進(jìn)行清洗和/或冷卻。
優(yōu)選地,外殼包括第三組高容量通道,所述通道橫穿外殼以允許對鉆孔進(jìn)行沖洗。
優(yōu)選地,當(dāng)活塞位于第一位置處時(shí)允許流體經(jīng)由高壓噴射通道離開外殼,并且活塞阻擋流體流動(dòng)經(jīng)過前方噴射通道以及經(jīng)過高容量通道。
優(yōu)選地,當(dāng)活塞位于第二位置處時(shí)允許流體經(jīng)由前方噴射通道離開外殼,并且活塞阻擋流體流動(dòng)經(jīng)過高容量通道以及經(jīng)過高壓噴射通道。
根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項(xiàng)所述的勘測工具,其中當(dāng)活塞位于第三位置處時(shí)允許流體經(jīng)由高容量通道離開外殼,并且活塞阻擋流體流動(dòng)經(jīng)過前方噴射通道以及經(jīng)過高壓噴射通道。
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