[發(fā)明專利]CMP用研磨液和研磨方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580036639.8 | 申請(qǐng)日： | 2015-07-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106471090A | 公開（公告）日： | 2017-03-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 筱田隆;太田宗宏;山村奈央;木野愛子 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 日立化成株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C09K3/14 | 分類號(hào)： | C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人： | 鐘晶,陳彥 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | cmp 研磨 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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