[發(fā)明專利]陰影掩模張緊方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580035532.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106575603B | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 布萊恩·阿瑟·布奇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阿德文泰克全球有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/027 | 分類號(hào): | H01L21/027;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 顧紅霞;顧欣 |
| 地址: | 英屬維爾京*** | 國(guó)省代碼: | 維爾京群島;VG |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陰影 掩模張緊 方法 設(shè)備 | ||
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 一種陰影檢測(cè)的方法、裝置及視頻圖像處理系統(tǒng)
- 陰影光譜模擬方法
- 一種計(jì)算光照?qǐng)D的靜態(tài)陰影和動(dòng)態(tài)陰影融合的方法及裝置
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