[發(fā)明專利]用于監(jiān)測和控制吸收制品轉(zhuǎn)換加工生產(chǎn)線的系統(tǒng)和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580034750.3 | 申請日： | 2015-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN106659594A | 公開（公告）日： | 2017-05-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | S·M·瓦爾加;B·E·沃爾什 | 申請（專利權(quán)）人： | 寶潔公司 |
| 主分類號： | A61F13/15 | 分類號： | A61F13/15;G06T7/20;G02B13/00;H04N5/225;H04N5/247 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100 | 代理人： | 張欣 |
| 地址： | 美國俄*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 監(jiān)測 控制 吸收 制品 轉(zhuǎn)換 加工 生產(chǎn)線 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種用于制造吸收制品的方法，所述方法包括以下步驟：
提供線掃描相機(jī)(306)，所述線掃描相機(jī)包括像素數(shù)據(jù)線性陣列(308)并限定線性視場(310)；
提供分析器(304)，所述分析器選自由以下項組成的組：現(xiàn)場可編程門陣列、專用集成電路和圖形處理單元；
布置所述線掃描相機(jī)(306)，使得所述線性視場(310)沿縱向延伸；
操作照明源(314)以限定照明所述線性視場(310)的照明場(316)；
提供基底(200)，所述基底包括第一表面(204)和相反的第二表面(206)，所述基底(200)還包括第一縱向側(cè)邊緣(208)和沿橫向與所述第一縱向側(cè)邊緣(208)分開的第二縱向側(cè)邊緣(210)；
沿所述縱向推進(jìn)所述基底(200)，使得所述第一縱向側(cè)邊緣(208)行進(jìn)穿過所述線性視場(310)；
將來自所述像素數(shù)據(jù)線性陣列(308)的第一組像素灰度值從所述線掃描相機(jī)(306)傳達(dá)給所述分析器(304)；以及
基于至少一個像素的所述灰度值來確定所述第一縱向側(cè)邊緣(208)的第一位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一縱向側(cè)邊緣(208)的所述第一位置與所述第一縱向側(cè)邊緣(208)相對于所述縱向的角取向?qū)?yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一縱向側(cè)邊緣(208)的所述第一位置與相對于固定位置的橫向位置對應(yīng)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括用柱面透鏡沿所述橫向擴(kuò)大所述線性視場(310)的步驟。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括將所述第一縱向側(cè)邊緣(208)的第一位置與目標(biāo)位置進(jìn)行比較的步驟。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中使用光電探測器陣列來收集所述像素數(shù)據(jù)線性陣列(308)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中沿所述縱向推進(jìn)所述基底(200)的所述步驟還包括推進(jìn)所述第一表面(204)的一部分穿過所述線性視場(310)，并且其中操作所述照明源的所述步驟還包括照明所述第一表面(204)和所述第二表面(206)中的一者的一部分。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括如下步驟：在確定所述第一縱向側(cè)邊緣(206)的所述第一位置之后，重新定位所述第一縱向側(cè)邊緣(206)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中重新定位所述第一縱向側(cè)邊緣(206)的所述步驟還包括改變所述第一縱向側(cè)邊緣(206)相對于所述縱向的角取向。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中重新定位所述第一縱向側(cè)邊緣(206)的所述步驟還包括沿所述橫向移動所述基底(200)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，所述方法還包括以下步驟：
將來自所述像素數(shù)據(jù)線性陣列(308)的第二組像素灰度值從所述線掃描相機(jī)(306)傳達(dá)給所述分析器(304)；以及
基于至少一個像素的所述灰度值來確定所述第一縱向側(cè)邊緣(206)的第二位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，所述方法還包括基于所述第一位置和所述第二位置來計算所述基底(200)的速度的步驟。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中所述基底(200)還包括離散部件(212)，所述離散部件包括第一側(cè)向側(cè)邊緣(214)和第二側(cè)向側(cè)邊緣(216)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，所述方法還包括基于至少一個像素的所述灰度值來確定所述第一側(cè)向側(cè)邊緣(214)的第一位置的步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述第一側(cè)向側(cè)邊緣(214)包括前緣，并且其中所述第二側(cè)向側(cè)邊緣(216)包括后緣。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寶潔公司，未經(jīng)寶潔公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580034750.3/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種用于監(jiān)測站的天氣監(jiān)測系統(tǒng)
- 一種電力設(shè)備安全監(jiān)測系統(tǒng)及監(jiān)測方法
- 基于區(qū)塊鏈的環(huán)境監(jiān)測及數(shù)據(jù)處理方法和裝置
- 監(jiān)測方法以及裝置
- 醫(yī)院后勤能耗目標(biāo)對象的監(jiān)測方法、裝置、計算機(jī)設(shè)備
- 故障監(jiān)測裝置和故障監(jiān)測系統(tǒng)
- 一種社區(qū)養(yǎng)老安全監(jiān)測系統(tǒng)
- 一種濕地生態(tài)環(huán)境監(jiān)測系統(tǒng)及方法
- 一種接地網(wǎng)阻抗短路在線監(jiān)測裝置
- 一種廢氣監(jiān)測裝置
