[發明專利]X射線吸收測量系統

有效

• 申請號: 201580033906.6
• 申請日: 2015-03-03
• 公開（公告）號: CN106605140B
• 公開（公告）日: 2019-09-17
• 發明（設計）人: 西爾維婭·賈·云·路易斯;云文兵;雅諾什·科瑞;艾倫·弗朗西斯·里昂
• 申請（專利權）人: 斯格瑞公司
• 主分類號: G01N23/083
• 分類號: G01N23/083;G01N23/085;G01T1/16
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 桑敏

1.一種x射線吸收測量系統，包括：

x射線源，該射線源包括：

至少一個電子束發射器；以及

至少一個陽極靶，該陽極靶包括：

基板，其包括第一選定材料；以及

多個離散微結構，其包括根據其x射線產生性質選擇的第二材料；

其中所述多個離散微結構中每一個與所述基板成熱接觸，以及

其中所述離散微結構中至少一個具有小于20微米的至少一個尺寸；

光具組，其用來收集由所述至少一個陽極靶生成并且沿著預定軸線在發散角內傳播的x射線并且產生具有預定束性質的x射線束；

X射線單色器，其可控地從所述X射線束選擇具有預定能量和帶寬地X射線；

支架，其用來保持待研究的物體，所述支架定位成使得所選擇的x射線入射于所述物體上；以及

檢測器，其用來測量通過所述物體透射的x射線。

2.根據權利要求1所述的系統，還包括：

第二檢測器，其用來測量入射于所述物體上的x射線強度。

3.根據權利要求1所述的系統，還包括：

第三檢測器，其用來測量當所述物體向所選擇的x射線暴露時由所述物體發射的x射線熒光的強度。

4.根據權利要求1所述的系統，還包括：

控制系統，其用來協調所述X射線單色器的設置和所述物體的位置和旋轉。

5.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述離散微結構中所述至少一個的每個側向尺寸小于50微米。

6.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述多個離散微結構被布置成沿著所述預定軸線的線性陣列；以及

所述光具組也沿著所述預定軸線對準。

7.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述第一選定材料選自下列：

鈹、金剛石、石墨、硅、氮化硼、碳化硅、藍寶石和類金剛石。

8.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述第二材料選自下列：

鋁、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鎵、鋅、釔、鋯、鉬、鈮、釕、銠、鈀、銀、錫、銥、鉭、鎢、銦、銫、鋇、金、鉑、鉛和其組合和合金。

9.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述多個離散微結構的子集包括根據其x射線產生性質選擇的第三材料。

10.根據權利要求9所述的系統，其中，

所述第三材料選自下列：

鋁、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鎵、鋅、釔、鋯、鉬、鈮、釕、銠、鈀、銀、錫、銥、鉭、鎢、銦、銫、鋇、金、鉑、鉛和其組合和合金。

11.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述多個離散微結構被布置成使得當所述多個預定量的離散微結構向來自所述電子束發射器的電子束暴露時由所述多個預定量的離散微結構生成的x射線通過選自所述多個離散微結構中的預定的一個離散微結構透射。

12.根據權利要求1所述的系統，其中，所述至少一個電子束發射器包括多個電子發射器，以及所述至少一個陽極靶包括多個陽極靶，使得每個電子發射器對準以提供電子束來轟擊相對應陽極靶從而生成x射線；并且所述陽極靶被對準使得產生x射線的位置沿著所述預定軸線對準；并且所述光具組也沿著所述預定軸線對準。

13.根據權利要求1所述的系統，其中，

所述光具組包括x射線反射器，所述x射線反射器具有對應于二次曲面的表面。

14.根據權利要求13所述的系統，其中，

所述二次曲面選自下列：球狀體、橢圓體、拋物面、雙曲面、橢圓柱、圓柱體、橢圓錐體和圓錐體。