[發明專利]包括紫外光吸收低聚物的壓敏粘合劑組合物

有效

• 申請號: 201580033853.8
• 申請日: 2015-06-25
• 公開（公告）號: CN106661400B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 戴維·B·奧爾森;帕特麗夏·M·薩武;黛安娜·諾思;喬丹·C·杜沙姆
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C09J9/00
• 分類號: C09J9/00;C09J4/02
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 王靜;丁業平

本文公開了一種組合物，其包含壓敏粘合劑和紫外光吸收低聚物的共混物。低聚物具有帶有懸垂紫外線吸收基團的第一二價單元和由下式表示的第二二價單元：其中R¹為氫或甲基，并且R²為具有4至20個碳原子的烷基。公開了包含該組合物的制品。例如，本文也公開了包括阻擋膜和該組合物的組件。

相關申請的交叉引用

本專利申請要求2014年6月26日提交的美國臨時申請62/017,666和2014年6月25日提交的美國臨時申請62/017,021的優先權，這些臨時申請的公開內容全文以引用方式并入本文。

背景技術

可期望將紫外線吸收劑(UVA)結合到暴露于紫外線(UV)輻射的材料中例如以保護其免于紫外線劣化。一些UVA可被分散到一些組合物中，但有時它們可由于揮發或遷移到表面而損失。已經提出將UVA共價結合到壓敏粘合劑(PSA)組合物中(參見2012年10月4日公布的JP2012188620)。已經對于包括在PSA組合物中描述了由具有紫外線吸收基團的單體制成的某些共聚物(參見，2000年4月28日公布的JP2000123621)。

發明內容

本公開提供了包括壓敏粘合劑和紫外光吸收低聚物的組合物，所述紫外線吸收低聚物有具有懸垂紫外線吸收基團的第一二價單元。低聚物大致上與壓敏粘合劑高度相容并且不遷移出粘合劑。包括壓敏粘合劑和低聚物的組合物提供保護免于紫外光并且對于可見光和紅外光具有良好的透明性。這些特性通常甚至在加速的UV暴露以及暴露于高溫和高濕條件之后仍很好地維持。

在一個方面，本公開提供了包含壓敏粘合劑和紫外光吸收低聚物的共混物的組合物。紫外光吸收低聚物包含具有懸垂紫外線吸收基團的第一二價單元和由下式表示的第二二價單元：

其中R¹為氫或甲基，并且R²為具有4至22個碳原子的烷基。在一些實施方案中，壓敏粘合劑為包含第二二價單元的丙烯酸壓敏粘合劑，并且其中對于壓敏粘合劑中的第二二價單元中的至少一些，R²為碳原子數與紫外光吸收低聚物中的第二二價單元中的至少一些的碳原子數相同的烷基。

組合物可以是可用的，例如用于將膜粘附到制品的表面或將任何兩個表面粘附在一起。因此，在另一方面，本公開提供了包含該組合物的制品。制品可為例如光伏器件或具有設置在其表面的至少一部分上的組合物的膜。膜可為例如車輛包裹物、圖形膜、建筑膜、窗膜或阻擋膜。

在另一方面，本公開提供提供組件，所述組件包括第一聚合物膜基底，其具有第一表面和與第一表面相對的第二表面；阻擋膜，其設置在第一聚合物膜的第一表面上；壓敏粘合劑層，其具有第一表面和與第一表面相對的第二表面，其中壓敏粘合劑的第一表面設置在與第一聚合物膜基底相對的阻擋膜上；以及第二聚合物膜基底，其設置在壓敏粘合劑層的第二表面上。壓敏粘合劑層包括紫外光吸收低聚物，所述紫外光吸收低聚物有具有懸垂紫外線吸收基團的第一二價單元和由下式表示的第二二價單元：

其中R¹為氫或甲基，并且R²為具有4至22個碳原子的烷基。

壓敏粘合劑(PSA)中的UVA可用于保護PSA和下層膜或結構均免于UV光。對于常規UVA，可存在遷移出粘合劑層以及附聚和所產生的光學缺陷的問題。當相比于如PSA的清晰度和透過率所證實的相同類別的可商購的UVA時，本文所公開的紫外光吸收低聚物在PSA制劑中具有優異的相容性。此外，在一些實施方案中，在本文所公開的紫外光吸收低聚物中，第二二價單元和任選地第三二價單元與PSA制劑中的那些相同。相比于其中絕大部分來源于甲基丙烯酸甲酯的低聚物，在這些實施方案中觀察到如清晰度和透過率數據所證實的增加的相容性。

在本專利申請中：