[發(fā)明專(zhuān)利]治療處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580033696.0
• 申請(qǐng)日: 2015-06-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106659908B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·楊;F·拉考斯特;J·安克薩;A·格里塞
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 泰拉克利昂公司
• 主分類(lèi)號(hào): A61N7/02
• 分類(lèi)號(hào): A61N7/02
• 代理公司: 北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280
• 代理人: 王勇;王博

1.一種用于治療處理的裝置(1)，其包括：

-HIFU換能器(2)，其用于產(chǎn)生且發(fā)射HIFU脈沖(3)到目標(biāo)(4)，所述HIFU換能器(2)能夠至少在探測(cè)階段期間的探測(cè)模式和處理階段期間的處理模式中操作，其中在所述探測(cè)階段中所述HIFU換能器(2)以包括至少一個(gè)探測(cè)參數(shù)的至少一個(gè)探測(cè)操作特性操作，所述操作特性包含具有焦點(diǎn)(5)的HIFU脈沖(3)的發(fā)射，且其中在所述處理階段中，所述HIFU換能器(2)以不同于所述探測(cè)操作特性的包括處理參數(shù)的至少一個(gè)處理操作特性操作，

- 檢測(cè)器(6)，其被設(shè)計(jì)成檢測(cè)在所述探測(cè)階段期間由所述HIFU脈沖(3)在所述目標(biāo)(4)中引起的組織性質(zhì)的改變，

-計(jì)算構(gòu)件(7)，其用于確定在所述探測(cè)階段期間實(shí)現(xiàn)由所述檢測(cè)器(6)檢測(cè)到的組織性質(zhì)的所述改變所必要的至少一個(gè)探測(cè)參數(shù)，

-控制件(8)，其用于基于實(shí)現(xiàn)組織性質(zhì)的所述改變所必要的所述至少一個(gè)探測(cè)參數(shù)界定處理參數(shù)，

- 其中所述控制件(8)進(jìn)一步被設(shè)計(jì)成通過(guò)在所述處理階段期間增加所述目標(biāo)(4)上由所述HIFU脈沖(3)沖擊的至少一個(gè)脈沖的區(qū)域的面積而將所述操作特性從所述探測(cè)階段改變到所述處理階段，以及

-其中，所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成在所述處理階段期間生成比在所述探測(cè)階段期間長(zhǎng)的HIFU脈沖。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(1)，其中所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成通過(guò)使所述HIFU脈沖(3)散焦而增加所述目標(biāo)(4)上由所述HIFU脈沖(3)沖擊的所述區(qū)域的面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置(1)，其中所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成通過(guò)使所述焦點(diǎn)(5)在所述目標(biāo)(4)之上移動(dòng)而增加所述目標(biāo)(4)上由所述HIFU脈沖沖擊的所述區(qū)域的面積。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置(1)，其中所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成使所述焦點(diǎn)(5)以預(yù)定義軌跡移動(dòng)，使得所述目標(biāo)上的至少一個(gè)點(diǎn)被沖擊的次數(shù)多于所述軌跡上的其余點(diǎn)。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置(1)，其中所述計(jì)算構(gòu)件(7)被設(shè)計(jì)成估計(jì)包含HIFU脈沖(3)的持續(xù)時(shí)間和HIFU脈沖(3)的功率中的至少一者的參數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的裝置(1)，其中在所述探測(cè)階段期間，所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成產(chǎn)生具有2到8秒的長(zhǎng)度的HIFU脈沖。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的裝置(1)，其中在所述處理階段期間，所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成產(chǎn)生具有8到30秒或8到10秒或10到30秒的長(zhǎng)度的HIFU脈沖(3)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的裝置(1)，其中所述裝置(1)的所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成將所述處理階段期間的所述HIFU換能器(2)的功率設(shè)定為小于在所述探測(cè)階段期間在由所述檢測(cè)器(6)檢測(cè)的所述目標(biāo)(4)中實(shí)現(xiàn)組織性質(zhì)改變所必要的所述HIFU換能器(2)的功率的100%。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一權(quán)利要求所述的裝置(1)，其中所述HIFU換能器(2)是環(huán)形的且被設(shè)定成形成環(huán)形HIFU射束，其中所述環(huán)形HIFU射束集中到環(huán)焦點(diǎn)上。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置(1)，其中在所述探測(cè)階段期間，所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成產(chǎn)生具有4秒的長(zhǎng)度的HIFU脈沖。

11.根據(jù)權(quán)利要求7中所述的裝置(1)，其中在所述處理階段期間，所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成產(chǎn)生具有12秒的長(zhǎng)度的HIFU脈沖(3)。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置(1)，其中所述裝置(1)的所述控制件(8)被設(shè)計(jì)成將所述處理階段期間的所述HIFU換能器(2)的功率設(shè)定為小于在所述探測(cè)階段期間在由所述檢測(cè)器(6)檢測(cè)的所述目標(biāo)(4)中實(shí)現(xiàn)組織性質(zhì)改變所必要的所述HIFU換能器(2)的功率的75%。