[發明專利]低熔點熔融金屬處理部件在審
| 申請號： | 201580033421.7 | 申請日： | 2015-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN106661713A | 公開（公告）日： | 2017-05-10 |
| 發明（設計）人： | 高橋一浩;川上哲;藤井秀樹;齋藤清隆 | 申請（專利權）人： | 新日鐵住金株式會社 |
| 主分類號： | C23C8/10 | 分類號： | C23C8/10;B22D41/02;C22C14/00;C22F1/18;C23C26/00;C23C28/04;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277 | 代理人： | 劉新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 熔點 熔融 金屬 處理 部件 | ||
【權利要求書】：
1.一種低熔點熔融金屬處理部件，其中，基材由鈦形成，在基材的表面具有厚度為2～20μm的氧化鈦層，在該氧化鈦層之下具有由比基材的氧濃度高的α相形成的厚度為20～200μm的富氧層。
2.一種低熔點熔融金屬處理部件，其中，基材由鈦形成，在基材的最外表面具有包含TiO2、MgO、SiO2、Al2O3、RE2O3及BN中的1種或2種以上的涂覆層，在該涂覆層之下具有厚度為2～20μm的氧化鈦層，在該氧化鈦層之下具有由比基材的氧濃度高的α相形成的厚度為20～200μm的富氧層。
3.根據權利要求1或2所述的低熔點熔融金屬處理部件，其特征在于，所述氧化鈦層及富氧層是將基材在氧化氣氛中以750℃以上且低于1000℃加熱30分鐘以上且300分鐘以下形成的。
4.根據權利要求1或2所述的低熔點熔融金屬用處理部件，其中，所述富氧層的截面硬度呈從基材的表面側向內部連續地減少的硬度分布。
5.根據權利要求1或2所述的低熔點熔融金屬用處理部件，其中，作為所述基材使用的鈦的500℃時的0.2％耐力為75MPa以上。
6.根據權利要求1或2所述的低熔點熔融金屬用處理部件，其中，作為所述基材使用的鈦包含Cu：0.5～1.5質量％、Sn：1.5質量％以下、Si：0.6質量％以下，且Cu與Sn的總量為0.5～2.7質量％、余量為Ti及不可避免的雜質。
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