[發明專利]光刻設備、對象定位系統和器件制造方法有效
| 申請號： | 201580032779.8 | 申請日： | 2015-05-21 |
| 公開（公告）號： | CN106462083B | 公開（公告）日： | 2019-08-13 |
| 發明（設計）人： | P·德維特;Y·德沃斯;P·赫姆佩紐斯;N·科姆珀;R·M·G·里杰斯;F·范德梅尤倫;S·博伊瑞 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 對象 定位 系統 器件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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