[發(fā)明專(zhuān)利]硅在納米線(xiàn)上的結(jié)構(gòu)受控的沉積有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580032057.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-05-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106663786B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王維潔;劉祖琴;韓松;J·博恩斯坦;C·I·斯蒂芬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安普瑞斯股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01M4/134 | 分類(lèi)號(hào): | H01M4/134;H01M4/1395;H01M10/052 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李躍龍 |
| 地址: | 美國(guó)加*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 線(xiàn)上 結(jié)構(gòu) 受控 沉積 | ||
1.用于鋰蓄電池的陽(yáng)極,其包含:
a)基材;
b)固著于該基材的納米線(xiàn)模板;
c)基本上涂覆該納米線(xiàn)模板的第一硅層,該第一硅層具有第一密度;和
d)該第一硅層和任何暴露的納米線(xiàn)模板上方的第二硅層,該第二硅層具有的密度高于該第一硅層的密度,
其中該第二硅層與下面的表面是共形的。
2.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第一密度小于2.2g/cm3。
3.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第一密度小于2.1g/cm3。
4.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第二硅層具有大于2.25g/cm3的密度。
5.用于鋰蓄電池的陽(yáng)極,其包含:
a)基材;
b)固著于該基材的納米線(xiàn)模板;
c)基本上涂覆該納米線(xiàn)模板的第一硅層,該第一硅層具有第一密度;和
d)該第一硅層和任何暴露的納米線(xiàn)模板上方的第二硅層,該第二硅層具有的密度高于該第一硅層的密度,
其中該第二硅層具有的密度比該第一硅層的密度大至少0.05g/cm3。
6.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第二硅層具有的密度比該第一硅層的密度大至少0.15g/cm3。
7.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第一硅層與該納米線(xiàn)模板是非共形的。
8.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中第一硅層和第二硅層是非晶態(tài)的。
9.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第一硅層的氫含量為至少10%。
10.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第二硅層的氫含量不大于5%。
11.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該納米線(xiàn)模板包含硅化物納米線(xiàn)。
12.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第一硅層在其最大直徑處為5至20微米厚。
13.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第二硅層為5至500納米厚。
14.權(quán)利要求1的陽(yáng)極,其中該第二硅層為5至100納米厚。
15.鋰蓄電池,其包含:
如權(quán)利要求1中的陽(yáng)極;
含鋰陰極;
與陽(yáng)極和陰極兩者離子連通的電解質(zhì)。
16.制作用于鋰蓄電池的陽(yáng)極的方法,其包括以下步驟:
提供基材;
從該基材生長(zhǎng)納米線(xiàn);
使用PECVD方法在該納米線(xiàn)上方沉積第一硅層;
使用熱CVD方法在該第一硅層、納米線(xiàn)和基材上方沉積第二硅層。
17.權(quán)利要求16的方法,其中該P(yáng)ECVD方法是膨脹熱等離子體(ETP)方法。
18.權(quán)利要求16的方法,其中該納米線(xiàn)是硅化物納米線(xiàn)。
19.權(quán)利要求16的方法,其中在熱CVD方法期間的室壓力小于2乇。
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