[發(fā)明專利]包含光反應性硅烷偶聯(lián)劑的負型感光性樹脂組合物在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580032043.0 | 申請日： | 2015-06-16 |
| 公開（公告）號： | CN106462070A | 公開（公告）日： | 2017-02-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 尹柱豹;尹赫敏;鄭鐘鎬;李慈英;韓承鎮(zhèn);樸珠亨 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社東進世美肯 |
| 主分類號： | G03F7/075 | 分類號： | G03F7/075;G03F7/085;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人： | 鐘晶;鐘海勝 |
| 地址： | 韓國仁川*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 包含 光反應 硅烷偶聯(lián)劑 感光性 樹脂 組合 | ||
【權(quán)利要求書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱鳎纾U花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
