[發明專利]多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妝料

有效

• 申請號: 201580031859.1
• 申請日: 2015-06-30
• 公開（公告）號: CN106660812B
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 榎本直幸;渡邊慧;三好康敬
• 申請（專利權）人: 日揮觸媒化成株式會社
• 主分類號: C01B33/18
• 分類號: C01B33/18;A61K8/25;A61Q1/00;A61Q1/02;A61Q17/04;A61Q19/00
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司11290
• 代理人: 王玉玲,李雪春

技術領域

本發明涉及比表面積小且微孔容積大的多孔二氧化硅系粒子、其制造方法以及配合其的化妝料。

背景技術

作為制造多孔二氧化硅系粒子的方法，已知各種方法。例如，在專利文獻1(日本特開昭61－174103號公報)中公開了通過使用噴霧干燥器對包含平均粒徑為以下的一次粒子(二氧化硅系微粒)的膠體液進行噴霧干燥而制造平均粒徑為1～20μm的多孔二氧化硅系粒子的方法。

在專利文獻2(日本特開2002－160907號公報)中公開了以下內容：通過對膠體液進行噴霧干燥，從而構成由平均粒徑為2～250nm的無機二氧化硅微粒聚集而得的平均粒徑1～100μm的無機二氧化硅微粒集合體，并以氧化物層被覆該集合體而制作球狀多孔粒子。

專利文獻3(日本特開2010－138021號公報)中公開了對10～50nm的二氧化硅系微粒分散液進行噴霧干燥而制作平均粒徑為0.5～50μm、比表面積為30～250m²/g的多孔二氧化硅系粒子，在專利文獻4(日本特開2010－138022號公報)中公開對50～300nm的二氧化硅系微粒分散液進行噴霧干燥而制作平均粒徑為0.5～50μm、比表面積為10～100m²/g的多孔二氧化硅系粒子。專利文獻5(日本特開2005－298739號公報)中公開了對包含陶瓷粉末和會因在40℃～250℃的溫度產生的化學反應或狀態變化而消失的物質的漿料進行噴霧干燥而制作多孔二氧化硅系粒子。

另外，一般還已知在化妝料中配合球狀的多孔二氧化硅系粒子等作為觸感改良材料。例如，在專利文獻6(日本特開2009－137806號公報)中公開了以下方法：通過在化妝料中配合多孔二氧化硅系粒子，從而得到具備作為化妝料的觸感改良材料所需要的代表性的觸感特性的爽滑感、濕潤感、滾動感、均勻的延展性、對肌膚的附著性、滾動感的持續性等的粉末固態化妝料。

但是，上述的多孔二氧化硅系粒子具有符合以下所示的納米材料的定義的擔憂。在歐州委員會于2011年10月18日的公告中，將(1)1～100nm的范圍的粒度分布超過50個數％的材料、(2)每單位體積的比表面積(SA)超過60m²/cm³的材料定義為屬于納米材料。上述的多孔二氧化硅系粒子均具有納米尺寸的微孔和高比表面積，二氧化硅按密度2.2g/cm³換算的每單位重量的比表面積超過27m²/g。屬于納米材料的粒子雖并未確認到直接在環境、健康、安全上產生重大問題，但是要求使用者、消耗者等避免使用符合納米材料的粒子。

另外，以后將納米材料的定義引入REACH時，有可能對該粒子的利用要求提出各種文件，存在手續耗費時間和費用、或者在產業利用上帶來阻礙的風險。

發明內容

發明要解決的課題

為此，本發明的目的在于，實現比表面積小且微孔容積大的多孔二氧化硅系粒子。此種多孔二氧化硅系粒子既具有良好的觸感特性，又不適用納米材料的定義。因此，可以放心地使用在與以往的多孔二氧化硅系粒子同樣的用途中。而且，可以提供配合此種特性的多孔二氧化硅系粒子作為觸感改良材料的化妝料。

用于解決課題的手段

本發明的多孔二氧化硅系粒子由二氧化硅系微粒構成，多孔二氧化硅系粒子的平均粒徑為0.5～25μm，利用BET法求得的比表面積為5～60m²/cm³，微孔容積為0.35～2.0ml/g。

另外，多孔二氧化硅系粒子的微孔徑分布(X軸：微孔徑、Y軸：以微孔徑對微孔容積進行微分得到的值)中的最頻微孔徑(D_m)大于100nm且不足4000nm。

進而，按照使多孔二氧化硅系粒子的微孔徑分布中的最小微孔徑(D₀)為25～500nm、最大微孔徑(D₁₀₀)為300～8000nm、最大微孔徑(D₁₀₀)與最小微孔徑(D₀)之比(D₁₀₀/D₀)為4～320的范圍的方式進行制備。

進而，多孔二氧化硅系粒子可以以10～50重量％的范圍含有無機氧化物微粒，所述無機氧化物微粒包含氧化鈦、氧化鐵及氧化鋅的至少一者。或者多孔二氧化硅系粒子可以包含有機系微粒。

進而，二氧化硅系微粒的平均粒徑優選相對于多孔二氧化硅系粒子的平均粒徑為0.01～0.30的范圍。