[發明專利]原子層沉積裝置及使用裝置處理基板的方法有效
| 申請號: | 201580031750.8 | 申請日: | 2015-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN106795629B | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發明(設計)人: | E·H·A·格蘭尼曼;胡磊磊 | 申請(專利權)人: | ASM國際股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 郭輝;項丹 |
| 地址: | 荷蘭阿*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 原子 沉積 裝置 使用 處理 方法 | ||
1.一種原子層沉積裝置(10),包括:
下壁(12),其包括多個氣體注入開口(16);
上壁(14),平行于該下壁(12)延伸,其包括多個氣體注入開口(16);
第一側壁(18)與第二側壁(20),大體上相對于該下壁(12)垂直延伸;以及
多個氣體排出開口;
其中,該下壁(12)、該上壁(14)、該第一側壁(18)以及該第二側壁(20)組合成加工隧道(24),該加工隧道(24)具有在輸送方向(T)延伸的長度,并具有橫向于該輸送方向(T)延伸的寬度,且該加工隧道(24)定義位于該第一側壁(18)與該第二側壁(20)中間的垂直中間平面;
該裝置(10)還包括:
第一前驅體氣體源(26),連接到多個氣體注入開口(16)的一系列的氣體注入開口(28),以便產生第一前驅體氣體注入區域(30),該第一前驅體氣體注入區域(30)大體上延伸覆蓋該加工隧道的整個該寬度(W)且在空間中沿著該加工隧道(24)的該輸送方向(T)排列;
第一沖凈氣體源(32),連接到多個氣體注入開口(16)的一系列的氣體注入開口(33),以便產生沖凈氣體注入區域(34),該沖凈氣體注入區域(34)大體上延伸覆蓋該加工隧道(24)的整個該寬度(W)且在空間中沿該加工隧道(24)的該輸送方向(T)排列;
第二前驅體氣體源(36),連接到多個氣體注入開口(16)的一系列的氣體注入開口(35),以便產生第二前驅體氣體注入區域(38),該第二前驅體氣體注入區域(38)大體上延伸覆蓋該加工隧道(24)的整個該寬度(W)且在空間中沿著該加工隧道(24)的該輸送方向(T)排列;
其中,該第一前驅體氣體源(26)、該沖凈氣體源(32)以及該第二前驅體氣體源(36)到各自的氣體注入開口(16)的連接,使得多個連續加工區段(40)沿著該輸送方向(T)在該加工隧道(24)內被產生,其中,每個加工區段(40)包括依次的第一前驅體氣體注入區域(30)、沖凈氣體區域(34)、第二前驅體氣體注入區域(38)以及沖凈氣體區域(34);
該裝置(10)還包括:
其中,
在該下壁(12)與該上壁(14)的氣體注入開口(16)的分布;以及
待加工的基板(S)的厚度以及該下壁(12)與該上壁(14)之間的距離(D),兩者之間的比例;以及
通過氣體注入開口(16)的氣體供應;以及
通過氣體排出開口的氣體排出,使用時,是這樣的:
氣體軸承形成在基板(S)的上方與下方,該基板(S)存在于該加工隧道(24)內;以及
在每個第一前驅體氣體區域(30)內,每個沖凈氣體區域(34)與每個第二前驅體氣體區域(38),存在兩個相反的橫向流,其大體上垂直于該輸送方向(T),且從該加工隧道(24)的該垂直中間平面各自流向該第一側壁(18)與該第二側壁(20);
其特征在于
第二沖凈氣體源(44),其壓力比該第一沖凈氣體源(32)更高;
第一系列的高壓氣體注入開口(46),位于該上壁(14)與該下壁(12)中的至少一個,其中該第一系列的高壓氣體注入開口(46)定位于每個沖凈氣體區域(34)內,且該第一系列的高壓氣體注入開口(46)大體上覆蓋該加工隧道(24)的整個該寬度(W)且連接到該第二沖凈氣體源(44);
并且,其特征在于
氣體排出開口,包括第一系列的氣體排出開口(48),該第一系列的氣體排出開口(48)設置在該上壁(14)與該下壁(12)中的至少一個,且大體上分布覆蓋該加工隧道(24)的整個該寬度(W)并連接到氣體排出通道(49);
其中,該第一系列的高壓氣體注入開口(46)與該第一系列的氣體排出開口(48)被定位,使得它們一起產生位于每個沖凈氣體區域(34)內的第一高壓/吸入區域(50),其中,每個第一高壓/吸入區域(50)大體上延伸覆蓋該加工隧道(24)的整個該寬度(W);以及
其中連接到該第二沖凈氣體源(44)的該氣體注入開口(46)的分布、在每個第一高壓/吸入區域(50)內的該第一系列的氣體排出開口的氣體排出開口(48)的分布,以及該第二沖凈氣體源(44)的壓力與在氣體排出開口(48)的壓力,是這樣的,在每個第一高壓/吸入區域(50)內的平均壓力和參考壓力的偏差值小于30%,該參考壓力為基板不存在時,在該第一前驅體氣體區域(30)、該第二前驅體氣體區域(38)以及該沖凈氣體區域(34)內的該平均壓力所定義。
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C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





