[發明專利]伽馬射線成像

有效

• 申請號: 201580031208.2
• 申請日: 2015-05-22
• 公開（公告）號: CN106663489B
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: D·博德曼;A·薩布特;A·弗林;D·普羅科波維奇
• 申請（專利權）人: 澳大利亞核科學和技術組織
• 主分類號: G21K5/10
• 分類號: G21K5/10;G21K1/12;G01N23/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 趙志剛;趙蓉民

1.一種用于壓縮傳感進入的輻射的掩模設備，其包括：

兩個或更多個編碼掩模，每個所述掩模具有由調制所述進入的輻射的強度的材料形成的主體；

其中，所述掩模中的每個掩模具有多個掩模孔徑區，所述多個掩模孔徑區允許相對于所述編碼掩模的其他部分的所述輻射的更高的透射，相對透射足以允許重構所述壓縮傳感測量；

其中所述編碼掩模中的至少兩個被配置為相對于彼此旋轉。

2.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：所述掩模設備具有兩個編碼掩模。

3.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

(i)所述掩模是半球形的，并且所述掩模設備具有2π的視場；或

(ii)所述掩模是球形的，并且所述掩模設備具有約4π的視場。

4.根據權利要求1所述的掩模設備，其中所述掩模是圓柱形的。

5.根據權利要求4所述的掩模設備，其中：所述掩模提供360°的水平視場。

6.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述掩模中的每個掩模具有頂部和底部，并且所述掩模設備進一步包括覆蓋所述掩模的所述頂部和底部的輻射屏蔽物。

7.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述掩模是半球形的、球體段或球體。

8.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述掩模中的每個掩模的所述多個掩模孔徑區在數量上等于2的冪次方。

9.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述掩模中的每個掩模由以下項中的一個或更多個形成：鎢、鉛、金、鈦、鉿及其合金。

10.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：所述掩模中的每個掩模由以下材料形成：

(i)調制進入的伽馬射線輻射的材料；或

(ii)調制進入的光學、紅外線、THz或其他波長的電磁輻射的材料；或

(iii)調制進入的中子輻射的材料；或

(iv)調制進入的伽馬射線輻射和中子兩者的材料。

11.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述掩模中的每個掩模由調制進入的伽馬射線輻射和中子兩者的材料形成；并且

所述掩模孔徑區中的一些是用于伽馬射線的調制區，而所述掩模孔徑區中的一些是用于中子的調制區。

12.根據權利要求1所述的掩模設備，其中：

所述多個掩模是同心的。

13.根據權利要求1所述的掩模設備，進一步包括輻射屏蔽物，其環繞所述掩模；其中：

所述輻射屏蔽物具有開口，所述開口限制位于所述掩模內的輻射傳感器的視場。

14.根據權利要求13所述的掩模設備，其中：所述掩模中的每個掩模具有頂部和底部，并且所述掩模設備進一步包括覆蓋所述掩模的所述頂部和底部的另外的輻射屏蔽物。