[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和曝光方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580030769.0 | 申請日： | 2015-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN106462089B | 公開（公告）日： | 2018-05-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | P·J·克拉默;R·吉利賈姆塞;N·拉默斯;D·M·斯洛特布姆 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人： | 王茂華 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 對準標記 多個目標 數(shù)學(xué)模型 擬合 圖案轉(zhuǎn)移 圖案 笛卡爾坐標 標稱位置 測量位置 方法描述 光刻設(shè)備 曝光 極坐標 襯底 測量 | ||
【說明書】：
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