[發(fā)明專利]離子源有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580022901.3 | 申請(qǐng)日： | 2015-06-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106663578B | 公開（公告）日： | 2018-11-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃允碩;許閏成 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 發(fā)仁首路先株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01J27/02 | 分類號(hào)： | H01J27/02 |
| 代理公司： | 北京匯信合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11335 | 代理人： | 翟國(guó)明 |
| 地址： | 韓國(guó)京畿道水原*** | 國(guó)省代碼： | 韓國(guó);KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 離子源 | ||
1.一種離子源，其特征在于，包括：
面向被處理物的一側(cè)開放，另一側(cè)被密封，所述開放一側(cè)上有內(nèi)側(cè)磁極和外側(cè)磁極被相離設(shè)置，在所述密封另一側(cè)用磁芯連接而在所述開放一側(cè)形成等離子體電子的加速閉環(huán)，所述內(nèi)側(cè)磁極具備向所述加速閉環(huán)方向供應(yīng)氣體的氣體注入部的磁場(chǎng)部；
在所述磁場(chǎng)部?jī)?nèi)所述加速閉環(huán)內(nèi)下部與所述磁場(chǎng)部相離設(shè)置的電極；
所述氣體注入部包括：
氣體從外部流入的氣體流入部；
連通于所述氣體流入部，沿著所述內(nèi)側(cè)磁極的長(zhǎng)度方向形成，并具有比所述氣體流入部更寬剖面的氣體分散部；
沿著所述內(nèi)側(cè)磁極的長(zhǎng)度方向，一側(cè)連通于所述氣體分散部，另一側(cè)向所述加速閉環(huán)開放，以比所述氣體分散部具有更小剖面的縫狀組成而將所述氣體向所述加速閉環(huán)方向噴出的第一氣體噴出部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，所述氣體注入部包括：
沿著所述內(nèi)側(cè)磁極的長(zhǎng)度方向，一側(cè)連通于所述氣體分散部，另一側(cè)向基片方向開放，并具有比所述氣體分散部更小剖面而將所述氣體向所述基片方向噴出的第二氣體噴出部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子源，其特征在于，所述第二氣體噴出部是相離的多個(gè)貫通孔或者連續(xù)縫。
4.一種離子源，其特征在于，包括：
面向被處理物的一側(cè)開放，所述開放一側(cè)有內(nèi)側(cè)磁極和外側(cè)磁極被相離設(shè)置，另一側(cè)是用磁芯連接，在所述開放一側(cè)形成等離子體點(diǎn)火和電子加速區(qū)域，所述內(nèi)側(cè)磁極或外側(cè)磁極具有一側(cè)向所述被處理物方向開放的氣體流入部的磁場(chǎng)部；
與所述磁極或外側(cè)磁極被電絕緣地結(jié)合，連通于所述氣體流入部，并向所述被處理物方向凸出的氣體注入延長(zhǎng)部；
與所述磁場(chǎng)部相離設(shè)置于所述磁場(chǎng)部?jī)?nèi)的電極；
所述氣體注入延長(zhǎng)部是電絕緣體；
所述氣體注入延長(zhǎng)部包括：
與所述內(nèi)側(cè)磁極或外側(cè)極結(jié)合，并具有連通于所述氣體注入部的第一貫通部的電絕緣部件；
與所述電絕緣部件連通，并具有一側(cè)連通于所述第一貫通部，另一側(cè)向所述被處理物方向開放的第二貫通部的管道部件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子源，其特征在于，
所述管道部件與所述電絕部件的邊界區(qū)域具有凹陷部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子源，其特征在于，
所述電絕緣部件與所述管道部件的邊界區(qū)域或與所述內(nèi)側(cè)磁極或外側(cè)磁極的邊界區(qū)域具有凹陷部。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子源，其特征在于，所述氣體注入延長(zhǎng)部是在所述被處理物方向的端部包括流路變更部。
8.根據(jù)權(quán)利要求4至7中任一項(xiàng)所述的離子源，其特征在于，
所述等離子體點(diǎn)火和電子加速區(qū)域形成多個(gè)閉環(huán)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子源，其特征在于，
包括多個(gè)電極，
給所述多個(gè)電極生成直流、交流或脈沖電壓施加的配電器。
10.根據(jù)權(quán)利要求4至7中任一項(xiàng)所述的離子源，其特征在于，所述氣體注入部包括：
氣體從外部流入的氣體流入部；
連通所述氣體流入部，沿著所述內(nèi)側(cè)磁極或外側(cè)磁極的長(zhǎng)度方向形成，且具有比所述氣體流入部更寬剖面的氣體分散部；
沿著所述內(nèi)側(cè)磁極或外側(cè)磁極的長(zhǎng)度方向，一側(cè)連通于所述氣體分散部，另一側(cè)向所述被處理物方向開放，且具有比所述氣體分散部更小剖面的氣體噴出部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的離子源，其特征在于，所述氣體噴出部由相連的縫或相離的多個(gè)通孔組成。
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