[發(fā)明專利]稠密特征的熱點(diǎn)的減少有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580022370.8 | 申請(qǐng)日: | 2015-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106255925B | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾世恩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 吳敬蓮 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國(guó)省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 稠密 特征 熱點(diǎn) 減少 | ||
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- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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- 矩陣處理裝置
- 人臉圖像的處理方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 結(jié)構(gòu)化稀疏參數(shù)的處理方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
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