[發(fā)明專利]孔形成方法以及測(cè)量裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580015959.5 | 申請(qǐng)日： | 2015-03-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106133507B | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 板橋直志;右高園子;柳至;赤堀玲奈;武田健一 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社日立高新技術(shù) |
| 主分類號(hào)： | G01N27/00 | 分類號(hào)： | G01N27/00;B82Y40/00;G01N21/64;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人： | 范勝杰;曹鑫 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電極 電解液 施加 照射光 近場(chǎng)光產(chǎn)生元件 測(cè)量裝置 過(guò)程停止 期望位置 打孔 絕緣性 載置 薄膜 檢測(cè) 流動(dòng) | ||
【權(quán)利要求書】：
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