[發明專利]光刻設備、用于將物體定位在光刻設備中的方法以及器件制造方法有效
| 申請號： | 201580015661.4 | 申請日： | 2015-04-15 |
| 公開（公告）號： | CN106104385B | 公開（公告）日： | 2018-08-10 |
| 發明（設計）人： | S·C·布勒斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 王靜 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 用于 物體 定位 中的 方法 以及 器件 制造 | ||
【說明書】：
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