[發明專利]電子設備

有效

• 申請號: 201580014281.9
• 申請日: 2015-03-18
• 公開（公告）號: CN106061724B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 佐佐木良一;犬伏康貴;中谷正和;高井淳;有本紀久雄;太田匡彥;森原靖
• 申請（專利權）人: 株式會社可樂麗
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B05D7/24;H01L33/56;C09D1/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 馬倩,魯煒

1.電子設備，其為包含保護片材的電子設備，其特征在于，

所述保護片材具備包含基材（X）和層疊在所述基材（X）上的層Y的多層結構體，

所述層Y含有金屬氧化物（A）、磷化合物（B）和離子價（F_Z）為1以上且3以下的陽離子（Z），

所述磷化合物（B）是含有能夠與所述金屬氧化物（A）反應的部位的化合物，

所述層Y中，構成所述金屬氧化物（A）的金屬原子（M）的摩爾數（N_M）與源自所述磷化合物（B）的磷原子的摩爾數（N_P）滿足0.8≤N_M/N_P≤4.5的關系，并且

所述層Y中，所述金屬氧化物（A）的金屬原子（M）的摩爾數（N_M）與所述陽離子（Z）的摩爾數（N_Z）與所述離子價（F_Z）滿足0.001≤F_Z×N_Z/N_M≤0.60的關系。

2.根據權利要求1所述的電子設備，其中，所述陽離子（Z）為選自鋰離子、鈉離子、鉀離子、鎂離子、鈣離子、鈦離子、鋯離子、鑭系離子、釩離子、錳離子、鐵離子、鈷離子、鎳離子、銅離子、鋅離子、硼離子、鋁離子和銨離子中的至少1種陽離子。

3.根據權利要求1或2所述的電子設備，其還包含量子點熒光體。

4.根據權利要求3所述的電子設備，其中，在包含量子點熒光體的層的單側或兩側配置有所述保護片材。

5.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，所述層Y中，所述金屬氧化物（A）的金屬原子（M）的摩爾數（N_M）與所述陽離子（Z）的摩爾數（N_Z）與所述離子價（F_Z）滿足0.01≤F_Z×N_Z/N_M≤0.60的關系。

6.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，所述磷化合物（B）為選自磷酸、多磷酸、亞磷酸、膦酸、亞膦酸、次膦酸、三價膦酸和它們的衍生物中的至少1種化合物。

7.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，在所述層Y的紅外線吸收光譜中，800~1,400cm^-1的范圍內的最大吸收波數處于1,080~1,130cm^-1的范圍。

8.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，所述基材（X）包含熱塑性樹脂膜。

9.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，所述層Y包含聚合物（C），所述聚合物（C）含有選自羰基、羥基、羧基、羧酸酐基和羧基的鹽中的至少1種官能團。

10.根據權利要求1或2所述的電子設備，其中，所述多層結構體還包含與所述層Y相鄰配置的層W，所述層W包含聚合物（G1），所述聚合物（G1）具有含磷原子的官能團。

11.根據權利要求1或2所述的電子設備，其特征在于，包括如下工序：

通過將金屬氧化物（A）、含有能夠與所述金屬氧化物（A）反應的部位的磷化合物（B）以及離子價（F_Z）為1以上且3以下的陽離子（Z）的離子性化合物（E）進行混合，從而制備第一涂布液（U）的工序〔I〕；

通過在所述基材（X）上涂布所述第一涂布液（U），從而在所述基材（X）上形成所述層Y的前體層的工序〔II〕；以及

將所述前體層以110℃以上的溫度進行熱處理的工序〔III〕，

所述第一涂布液（U）中，構成所述金屬氧化物（A）的金屬原子（M）的摩爾數（N_M）與源自所述磷化合物（B）的磷原子的摩爾數（N_P）滿足0.8≤N_M/N_P≤4.5的關系，并且

所述第一涂布液（U）中，所述金屬氧化物（A）的金屬原子（M）的摩爾數（N_M）與所述陽離子（Z）的摩爾數（N_Z）與所述離子價（F_Z）滿足0.001≤F_Z×N_Z/N_M≤0.60的關系。