[發(fā)明專利]散射斷層成像方法以及散射斷層成像裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580013422.5 | 申請日： | 2015-03-11 |
| 公開（公告）號： | CN106456137B | 公開（公告）日： | 2019-06-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 木村建次郎;木村憲明 | 申請（專利權(quán)）人： | 積分幾何科學(xué)公司 |
| 主分類號： | A61B10/00 | 分類號： | A61B10/00;G01N22/02 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 散射 斷層 成像 方法 以及 裝置 | ||
【說明書】：
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