[發明專利]離子分析裝置

有效

• 申請號: 201580012070.1
• 申請日: 2015-02-17
• 公開（公告）號: CN106104747B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 高橋秀典;小寺慶;關谷禎規;谷口謙一
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: H01J49/42
• 分類號: H01J49/42;G01N27/62
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種離子分析裝置，對將源自試樣成分的離子裂解而生成的碎片離子進行分析，其特征在于，具備：

a)離子裂解部，其通過對作為目標的源自試樣成分的離子所存在的空間以4×10¹⁰原子/秒以上的流量導入氫自由基，來使該離子裂解；以及

b)分離檢測部，其根據質荷比和離子遷移率中的至少一方來分離并檢測在所述離子裂解部中生成的碎片離子。

2.根據權利要求1所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部向離子封入部導入氫自由基，在該離子封入部的內部使作為目標的源自試樣成分的離子與氫自由基反應來使該離子裂解，其中，該離子封入部通過電場或磁場的作用將離子封入規定的空間。

3.根據權利要求2所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子封入部是離子阱，所述離子裂解部包括輔助裂解促進部，在導入氫自由基之前和導入氫自由基之后的至少一方的期間，該輔助裂解促進部使在所述離子阱內捕獲到的離子激發，通過使該離子與導入到該離子阱內的中性粒子碰撞來促進離子的裂解。

4.根據權利要求2所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子封入部是離子阱，所述離子裂解部包括輔助裂解促進部，在導入氫自由基之前和導入氫自由基之后的至少一方的期間，該輔助裂解促進部通過對在所述離子阱內捕獲到的離子照射激光來促進該離子的裂解。

5.根據權利要求2～4中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子封入部是離子阱，在導入氫自由基之前，所述離子裂解部利用冷卻氣體對在所述離子阱內捕獲到的離子進行冷卻。

6.根據權利要求2～4中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子封入部是離子阱，在導入氫自由基的期間的至少一部分期間內，所述離子裂解部通過對除前體離子以外的在質荷比范圍內包含的離子進行共振激勵，來抑制離子與氫自由基的反應速度。

7.根據權利要求2所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部將導入氫自由基的時間設定得長使得發生多次裂解。

8.根據權利要求1～4及7中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部包括氫自由基導入管，該氫自由基導入管是用于將氫自由基輸送到離子所存在的區域的、在玻璃管或者至少內壁面上形成有玻璃覆膜的配管。

9.根據權利要求1～4及7中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部包括：

氫自由基導入管，其用于將氫自由基輸送到離子所存在的區域；以及

加熱部，其使該氫自由基導入管維持高溫，或對該氫自由基導入管進行加熱。

10.根據權利要求1～4及7中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部使惰性氣體沿著氫自由基導入管的內壁面流動，通過該惰性氣體的流動來避免氫自由基接觸導入管內壁面并且將氫自由基輸送到離子所存在的區域，其中，該氫自由基導入管用于將氫自由基輸送到離子所存在的區域。

11.根據權利要求1～4及7中的任一項所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部包括流束整形部，該流束整形部用于取出具有定向性的氫自由基流。

12.一種離子分析裝置，對將源自試樣成分的離子裂解而生成的碎片離子進行分析，其特征在于，具備：

a)離子裂解部，其通過對作為目標的源自試樣成分的離子所存在的空間以3×10¹²原子/立方米以上的密度導入氫自由基，來使該離子裂解；以及

b)分離檢測部，其根據質荷比和離子遷移率中的至少一方來分離并檢測在所述離子裂解部中生成的碎片離子。

13.根據權利要求12所述的離子分析裝置，其特征在于，

所述離子裂解部向離子封入部導入氫自由基，在該離子封入部的內部使作為目標的源自試樣成分的離子與氫自由基反應來使該離子裂解，其中，該離子封入部通過電場或磁場的作用將離子封入規定的空間。