[發明專利]內窺鏡裝置有效
| 申請號: | 201580009104.1 | 申請日: | 2015-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN106028901B | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發明(設計)人: | 曾根伸彥;高頭英泰 | 申請(專利權)人: | 奧林巴斯株式會社 |
| 主分類號: | A61B1/00 | 分類號: | A61B1/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇,張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 內窺鏡 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種內窺鏡裝置,尤其是涉及一種在前端的插入部具備多個照明光學系統的內窺鏡裝置。
背景技術
一般地,在內窺鏡裝置的前端部配置有向被攝體照射照明光的照明光學系統、用于觀察被攝體的觀察光學系統、用于將處置器具等引出的通道以及對觀察光學系統的透鏡面進行清洗的噴嘴等結構物。另外,還提出了一種通過配置多個照明光學系統來高效地對廣視角的視場進行照射的內窺鏡裝置。作為這樣的內窺鏡裝置,例如在專利文獻1中公開了如下一種內窺鏡裝置:在插入部的前端面的面內具備觀察光學系統的觀察窗、直徑比觀察窗大的圓形狀的鉗子口以及照射出照明光的多個光照射窗,多個光照射窗以將觀察窗夾在中間的方式配置,配置在相對于觀察光學系統較近的位置的照明光學系統的光照射角、配光廣。
專利文獻1:日本專利第5075658號公報
發明內容
發明要解決的問題
然而,在設為上述的專利文獻1所公開的內窺鏡裝置那樣的結構的情況下,容易產生雜光、暈影之類的在觀察方面不理想的問題,作為結果,成為妨礙進行良好觀察的結構。
本發明是鑒于上述的情形而完成的,其目的在于提供一種能夠在確保足夠的配光和明亮度的同時抑制雜光、暈影來進行良好的觀察的內窺鏡裝置。
用于解決問題的方案
為了達到上述目的,本發明提供以下的方案。
本發明的一個方式提供一種內窺鏡裝置,具備:觀察光學系統,其設置于內窺鏡裝置的插入部的前端,用于對觀察對象進行觀察;以及多個照明光學系統,其設置于所述插入部,向所述觀察對象分配從光源射出的照明光來對同一視場進行照明,其中,多個該照明光學系統中的最寬配光的照明光學系統離所述觀察光學系統的距離比最窄配光的照明光學系統離所述觀察光學系統的距離遠,且滿足以下的條件式,
0.6≤|φSfW/φWfS|≤1.0…(1)
其中,fW為最寬配光的照明光學系統的焦距,fS為最窄配光的照明光學系統的焦距,φW為最寬配光的照明光學系統的位于最靠近物體側面的位置的透鏡的外徑,φS為最窄配光的照明光學系統的位于最靠近物體側面的位置的透鏡的外徑。
根據本方式,通過滿足條件式(1),能夠使照明光量增大并形成廣的配光,從而能夠抑制雜光、暈影來進行良好的觀察。
如果超過條件式(1)的上限,則接近觀察光學系統的一方的照明的配光變廣,容易產生雜光、暈影等問題。另一方面,如果低于條件式(1)的下限,則其中一方的配光變得過于廣,因此導致僅照明所配置的方向變亮,導致成為雖然抗雜光和暈影性強但僅畫面的一部分亮的不均勻的照明光學系統。
規定了滿足條件式(1)是基于以下的理由。一般地,在將照明光學系統設為照明的光量大、或廣的配光的情況下,由于周邊部的光量變多,因此產生直接進入觀察光學系統的雜光、在接近被攝體時強光照射周邊部而導致觀察畫面的一部分過曝光的暈影等光學問題的頻率變高。因此,為了將配置在相對于觀察光學系統較近的位置的照明光學系統設為用于減輕雜光、暈影的照明,需要使照明光學系統的光量減少進而構成為比較窄的配光。即,需要構成為使照明光學系統的焦距增大并減小透鏡外徑。
可是,當像這樣構成時,遠處的照明光變得不足,導致畫面周邊的配光不足。因此,多個照明光學系統中的配置在較遠位置的照明光學系統需要使照明光量增大并構成為廣的配光。即,構成為使焦距減小并增大透鏡外徑。即,為了同時滿足這兩個結構而需要滿足條件式(1)。
此外,代替條件式(1)而應用以下的條件式(1’)則較為優選,代替(1)或(1’)而應用(1”)則更為優選。
0.7≤|φSfW/φWfS|≤0.95…(1’)
并且,以下則更好。
0.75≤|φSfW/φWfS|≤0.92…(1”)
在上述方式中,也可以設為滿足以下的條件式。
1.6≤|φSfL/fSφL|≤2.8…(2)
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