[發明專利]二氧化硅多孔膜形成用液體組合物及由該液體組合物形成的二氧化硅多孔膜有效
| 申請號: | 201580006551.1 | 申請日: | 2015-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN105939966B | 公開(公告)日: | 2018-01-12 |
| 發明(設計)人: | 增山弘太郎;日向野憐子;山崎和彥 | 申請(專利權)人: | 三菱綜合材料株式會社 |
| 主分類號: | C01B33/12 | 分類號: | C01B33/12;B01D71/02;C01B33/14 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司11018 | 代理人: | 樸圣潔,王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二氧化硅 多孔 形成 液體 組合 | ||
1.一種二氧化硅多孔膜形成用液體組合物,其通過混合作為硅醇鹽的四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷的水解物及二氧化硅溶膠而制備,所述二氧化硅溶膠在液體介質中分散具有平均粒徑為40nm以下的一次粒子和平均粒徑大于所述一次粒子的20~400nm的二次粒子的氣相二氧化硅粒子來形成,所述水解物中的SiO2量A相對于所述二氧化硅溶膠的SiO2量B的質量比A/B在1/99~60/40的范圍。
2.一種二氧化硅多孔膜形成方法,其使用權利要求1所述的液體組合物來形成二氧化硅多孔膜。
3.一種二氧化硅多孔膜,其由氣相二氧化硅粒子及存在于氣相二氧化硅粒子之間或涂布膜與基板之間的不規則形狀的SiO2成分而構成,所述氣相二氧化硅粒子具有平均粒徑為40nm以下的一次粒子和平均粒徑大于所述一次粒子的20~400nm的二次粒子,膜的平均孔徑在10~200nm的范圍。
4.一種二氧化硅多孔膜形成方法,其為權利要求2所述的二氧化硅多孔膜形成方法,且包括:將所述液體組合物涂布于基板上的工序;及對涂布有所述液體組合物的基板進行燒成而將涂布于所述基板的所述液體組合物進行固化的工序。
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