[發明專利]氧化物燒結體和包含該氧化物燒結體的濺射靶有效

申請號：	201580000713.0	申請日：	2015-01-22
公開（公告）號：	CN105209405B	公開（公告）日：	2017-07-11
發明（設計）人：	角田浩二;長田幸三	申請（專利權）人：	吉坤日礦日石金屬株式會社
主分類號：	C04B35/00	分類號：	C04B35/00;C23C14/34
代理公司：	中原信達知識產權代理有限責任公司11219	代理人：	胡嵩麟,王海川
地址：	日本***	國省代碼：	暫無信息
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摘要：
搜索關鍵詞：	氧化物燒結包含濺射
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【權利要求書】：

1.一種氧化物燒結體，其為包含銦(In)、鎵(Ga)、鋅(Zn)、氧(O)和不可避免的雜質的氧化物燒結體，其特征在于，所述氧化物燒結體具有以In、Ga和Zn的原子比計In：Ga：Zn＝1：1：1的IGZO(111)相和比IGZO(111)相含有更多Zn的IGZO相；比IGZO(111)相含有更多Zn的IGZO相的面積比率為1～10％；該氧化物燒結體的In、Ga和Zn的原子數比為In：Ga：Zn＝1：1：(1.02～1.10)；所述氧化物燒結體的燒結體密度為6.3g/cm³以上。

2.如權利要求1所述的氧化物燒結體，其特征在于，平均粒徑為20μm以下。

3.如權利要求1或2所述的氧化物燒結體，其特征在于，體電阻為30mΩcm以下。

4.一種濺射靶，其由權利要求1至3中任一項所述的氧化物燒結體制作。

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