[發明專利]旁通止回閥以及具有該旁通止回閥的文丘里裝置

有效

• 申請號: 201580000496.5
• 申請日: 2015-04-03
• 公開（公告）號: CN105378358B8
• 公開（公告）日: 2018-04-24
• 發明（設計）人: A·尼德特;B·M·格雷琴
• 申請（專利權）人: 戴科知識產權控股有限責任公司
• 主分類號: F16K47/04
• 分類號: F16K47/04;F16K15/02
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所11313
• 代理人: 郝文博

1.一種旁通止回閥，包括：

殼體，其限定了具有第一端口和第二端口的內空腔，所述第一端口和第二端口均與所述內空腔流體連通，并且所述內空腔具有第一座和第二座；以及

密封部件，其位于所述內空腔內，其中所述密封部件能夠在抵靠所述第一座的閉合位置與抵靠所述第二座的打開位置之間平移；

其中所述第二座限定了具有預定高度的中間區域的支撐結構、以及具有其高度比所述中間區域的所述預定高度小的下游側；

其中所述密封部件能夠抵靠所述第二座安置，使其下游部分比其上游部分更遠離所述第一座一定距離；

其中所述第二座還包括上游側，所述上游側的高度比所述中間區域的所述高度小，但比所述下游側的所述高度大。

2.如權利要求1所述的旁通止回閥，其中所述密封部件能夠在抵靠所述第一座的大致平面型閉合位置與抵靠所述第二座的弓形位置之間偏轉。

3.如權利要求1所述的旁通止回閥，其中所述支撐結構包括繞著所述第二端口沿周向間隔開地延伸進入所述內空腔的多個指形件，所述多個指形件具有不同的高度；其中至少兩個沿直徑相對的指形件限定所述中間區域，一個或多個中等高度指形件限定所述上游側，并且一個或多個較短指形件限定所述下游側，所述一個或多個中等高度指形件的高度比限定所述中間區域的指形件的總高度小10％至30％；所述一個或多個較短指形件的高度比所述中等高度指形件的高度小。

4.如權利要求1所述的旁通止回閥，其中所述殼體包括延伸到所述內空腔中的銷，所述密封部件包括貫通其中的孔，所述殼體的所述銷被接納在所述密封部件的所述孔中，以便使所述密封部件沿著所述銷平移。

5.如權利要求1所述的旁通止回閥，其中所述第一座包括第一環狀密封壓條、以及從所述第一環狀密封壓條沿徑向向內布置的第二環狀密封壓條。

6.如權利要求3所述的旁通止回閥，還包括一個或多個第四高度指形件，其定位成相對于所述一個或多個中等高度指形件，接近所述一個或多個中等高度指形件的與限定所述中間區域的所述指形件相對的一側；其中所述第四高度指形件的高度小于所述中等高度指形件的高度，而大于所述一個或多個較短指形件的高度。

7.如權利要求6所述的旁通止回閥，還包括一個或多個第五高度指形件，其定位成相對于所述較短指形件，接近所述較短指形件的與限定所述中間區域的所述指形件相對的一側；其中所述第五高度指形件具有比所述較短指形件小的高度。

8.一種文丘里裝置，包括：

根據權利要求1的旁通止回閥，其控制流經被布置在文丘里間隙的下游且旁通所述文丘里間隙的旁通端口的流體流。

9.如權利要求8所述的文丘里裝置，還包括第二止回閥，其控制流經與所述文丘里間隙流體連通的抽吸端口的流體流。

10.如權利要求8所述的文丘里裝置，其中所述中間區域具有將所述密封部件定位成比預定距離更靠近所述第一座的高度。

11.如權利要求8所述的文丘里裝置，其中所述支撐結構包括繞著所述第二端口沿周向間隔開地延伸進入所述內空腔的多個指形件，所述多個指形件具有不同的高度；其中至少兩個沿直徑相對的指形件限定所述中間區域，一個或多個中等高度指形件限定所述上游側，一個或多個較短指形件限定所述下游側，所述一個或多個中等高度指形件的高度比限定所述中間區域的指形件的總高度小10％至30％；所述一個或多個較短指形件的高度比所述中等高度指形件的高度小。

12.如權利要求11所述的文丘里裝置，其中所述一個或多個中等高度指形件定位成比所述較短指形件更接近與所述文丘里間隙流體連通的動力端口，相反地，所述較短指形件定位成更接近與所述文丘里間隙流體連通的排放端口。

13.如權利要求8所述的文丘里裝置，其中所述殼體包括延伸進入所述內空腔的銷，所述密封部件包括貫通其中的孔，所述殼體的所述銷被接納在所述密封部件的所述孔中，以使所述密封部件沿著所述銷平移。

14.如權利要求11所述的文丘里裝置，還包括一個或多個第四高度指形件，其定位成相對于所述一個或多個中等高度指形件，接近所述一個或多個中等高度指形件的與限定所述中間區域的指形件相對的一側；其中所述第四高度指形件的高度小于所述中等高度指形件的高度，而大于所述一個或多個較短指形件的高度。