[實(shí)用新型]一種防輻射的耐磨透明材料

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201521138106.4
• 申請(qǐng)日: 2015-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN205291754U
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳曉彤;方俊勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 奧特路（漳州）光學(xué)科技有限公司
• 主分類號(hào): B32B9/04
• 分類號(hào): B32B9/04;B32B17/06;B32B27/06
• 代理公司: 福州君誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35211
• 代理人: 戴雨君

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種防輻射的耐磨透明材料。

背景技術(shù)

電子產(chǎn)品的觸摸顯示屏等透明材料在使用過程中還會(huì)不斷產(chǎn)生對(duì)人體有害的電子輻射、另外太陽光中的紫外線及遠(yuǎn)紅外線等，給人體造成傷害。而且現(xiàn)有的透明材料在使用過程中很容易被刮花或蹭花，影響美觀。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以防輻射的、表面具有高硬度層的耐磨的透明材料。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種防輻射的耐磨透明材料，包括透明基片，所述透明基片的至少一個(gè)表面設(shè)有膜系，所述膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層、厚度為10-50nm的高硬度層。

所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有膜系。

所述氧化銦錫層為氧化銦錫電子槍蒸鍍成型。

所述高硬度層為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。

所述透明基片為玻璃或樹脂成型。

本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案，氧化銦錫層的設(shè)置有效的切斷對(duì)人體有害的電子輻射、紫外線及遠(yuǎn)紅外線，起到了防輻射的效果，此外設(shè)置高硬度層能夠顯著提高透明材料的耐磨性。本實(shí)用新型防輻射耐磨的透明材料可以應(yīng)用作為窗戶玻璃、相框表面、眼鏡鏡片、手機(jī)屏幕、電腦顯示屏、儀表盤、照相機(jī)視窗等產(chǎn)品的透明面材，按照使用的需要在透明基片的一面或兩面設(shè)膜系，如此產(chǎn)品具有防輻射和耐磨的雙重功能。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，實(shí)用性強(qiáng)。

附圖說明

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明：

圖1為本實(shí)用新型防輻射耐磨材料的一種結(jié)構(gòu)分解示意圖；

圖2為本實(shí)用新型防輻射耐磨材料的另一種結(jié)構(gòu)分解示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1-2之一所示，一種防輻射的耐磨透明材料，包括透明基片1，所述透明基片1的至少一個(gè)表面設(shè)有膜系，所述膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層2、厚度為10-50nm的高硬度層3。

所述透明基片的兩個(gè)表面均設(shè)有膜系。

所述氧化銦錫層2和4為氧化銦錫電子槍蒸鍍成型。

所述高硬度層3為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體電子槍蒸鍍成型。

所述透明基片1為玻璃或樹脂成型。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種防輻射的耐磨透明材料，包括透明基片1，所述透明基片1的一個(gè)表面設(shè)有膜系，所述膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層2、厚度為10-50nm的三氧化二鋁層3。所述透明基片1為玻璃成型。

實(shí)施例2

如圖2所示，一種防輻射的耐磨透明材料，包括透明基片1，所述透明基片1的兩個(gè)表面均設(shè)有膜系。所述一個(gè)表面的膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層2、厚度為10-50nm的氧化鋯層3。另一個(gè)表面的膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層4、厚度為10-50nm的二氧化硅晶體層5。所述透明基片1為樹脂成型。

實(shí)施例3

如圖1所示，一種防輻射的耐磨透明材料，包括透明基片1，所述透明基片1的一個(gè)表面設(shè)有膜系，所述膜系從內(nèi)往外依序?yàn)楹穸葹?0-100nm的氧化銦錫層2、厚度為10-50nm的一氧化硅晶體層3。所述透明基片1為玻璃成型。