[實用新型]玻璃基板邊緣研磨裝置

有效

• 申請號: 201521133768.2
• 申請日: 2015-12-30
• 公開（公告）號: CN205325485U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 李蓉;李兆廷;石志強;李震;李俊生
• 申請（專利權）人: 蕪湖東旭光電科技有限公司;東旭光電科技股份有限公司
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02;B24B37/00;B24B37/34
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 桑傳標;陳慶超

技術領域

本實用新型涉及液晶玻璃基板的生產技術領域，具體地，涉及一種玻璃基板邊緣 研磨裝置。

背景技術

玻璃基板在進行切割、倒角、加工等工序時會在邊緣產生傷痕或裂紋，需要通過對 邊緣的研磨提高其機械強度。目前傳統的研磨工序采用研磨刀輪對玻璃邊緣進行研磨，這 種研磨方式會對基板邊緣產生熱效應，導致研磨效果不穩定，容易出現掉片和裂紋等缺陷。 傳統解決方式是在研磨輪與玻璃基板的接觸面噴射冷卻水進行冷卻，但是單方向的冷卻水 沖擊力會使基板玻璃邊緣的上下兩側研磨幅度不均勻，影響玻璃基板在后續加工和應用中 的穩定性。此外，傳統的研磨方式對研磨輪消耗較大，隨著研磨里程增加，研磨刀輪的磨損 嚴重，為了保證研磨效果，需要定期停機更換，影響生產節拍，費時費材料。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種玻璃基板邊緣研磨裝置，該研磨裝置具有較高的穩 定性，可以避免研磨熱效應帶來的掉片和裂紋等缺陷。

為了實現上述目的，本實用新型提供一種玻璃基板邊緣研磨裝置，所述玻璃基板 邊緣研磨裝置包括沿玻璃基板邊緣移動的水刀噴頭以及與該水刀噴頭連接的水流控制單 元，該水刀噴頭為兩個且對稱設置以分別從兩側朝向該玻璃基板邊緣噴射含有研磨液的高 壓水。

優選地，所述水流控制單元向所述水刀噴頭提供高壓水，該高壓水中含有研磨 液。

優選地，所述研磨液的溫度低于20°。

優選地，所述研磨液為金剛石研磨液、二氧化硅研磨液或二氧化鈰研磨液。

優選地，兩個所述水刀噴頭分別傾斜地指向所述玻璃基板邊緣。

優選地，兩個所述水刀噴頭相對于所述玻璃基板的傾斜角度為30°-60°。

優選地，所述水刀噴頭的頭部設置有研磨水刀刷，該研磨水刀刷與所述玻璃基板 邊緣相接觸。

優選地，所述研磨水刀刷為尼龍、合成樹脂制成的纖維、動物毛發和金屬線中的一 種或多種。

優選地，所述水流控制單元包括依次連接設置的水流控制裝置、由該水流控制裝 置控制的噴射閥和高壓水管，所述高壓水管與所述水刀噴頭的尾部相連。

優選地，所述玻璃基板邊緣研磨裝置還包括支架和帶動所述水刀噴頭在該支架上 移動的水刀移動裝置。

優選地，所述玻璃基板邊緣研磨裝置還包括支架和帶動所述水刀噴頭在該支架上 移動的水刀移動裝置，所述支架形成為由橫臂和立柱構成的懸臂式支架，所述橫臂的延伸 方向與所述玻璃基板邊緣的延伸方向相同，所述水刀移動裝置可移動地設置在所述橫臂 上，所述水流控制裝置和所述噴射閥固定在所述水刀移動裝置的上方，并且所述高壓水管 設置在所述水刀移動裝置內。

優選地，所述玻璃基板邊緣研磨裝置還包括用于放置所述玻璃基板的工作臺，所 述工作臺的頂面形成為水平面，并且設置有真空孔，所述玻璃基板通過真空吸附作用固定 在所述工作臺的水平面上。

優選地，所述玻璃基板邊緣研磨裝置包括位于水刀噴頭下方的廢水收集裝置。

優選地，所述玻璃基板邊緣研磨裝置還包括用于放置所述玻璃基板的工作臺，所 述廢水收集裝置包括收集裝置和形成在所述工作臺內的容納裝置，所述收集裝置形成為連 接在所述容納裝置外側并斜向上延伸的擋板，該擋板位于所述水刀噴頭的下方并與所述容 納裝置連通。

通過上述技術方案，利用水刀對玻璃基板邊緣進行研磨，具有較高的穩定性，避免 了研磨熱效應帶來的掉片和裂紋等缺陷。

本實用新型的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面 的具體實施方式一起用于解釋本實用新型，但并不構成對本實用新型的限制。在附圖中：

圖1是本實用新型優選實施方式提供的玻璃基板邊緣研磨裝置的側視圖。

圖2是本實用新型優選實施方式提供的玻璃基板邊緣研磨裝置的側視圖。

圖3是本實用新型優選實施方式提供的水刀噴頭與研磨水刀刷的示意圖。

附圖標記說明

1水刀噴頭2研磨水刀刷3高壓水管

4水刀移動裝置5橫臂6噴射閥

7水流控制裝置8工作臺9收集裝置

10容納裝置11玻璃基板12立柱

13廢水收集裝置

具體實施方式