[實用新型]一種硅片研磨裝置有效
| 申請號: | 201521124657.5 | 申請日: | 2015-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN205271696U | 公開(公告)日: | 2016-06-01 |
| 發明(設計)人: | 陳欽忠;鄧全清 | 申請(專利權)人: | 福建阿石創新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/30 | 分類號: | B24B37/30;B24B37/16 |
| 代理公司: | 福州科揚專利事務所 35001 | 代理人: | 徐開翟 |
| 地址: | 350299 福建省福州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 研磨 裝置 | ||
1.一種硅片研磨裝置,其特征在于:包括一硅片固定裝置(1)、研磨盤(2),所述研磨盤 (2)設置于硅片固定裝置(1)下方。
2.根據權利要求1所述的一種硅片研磨裝置,其特征在于:所述硅片固定裝置(1)為一 圓形壓板,所述硅片固定裝置(1)在下表面上開設有與硅片(3)尺寸相對應的方形槽(11), 所述方形槽(11)的四角以圓弧(12)連接,所述硅片固定裝置(1)的上表面中心區域設置有 一凸起的定位柱(13),所述定位柱(13)中心位置設置有一頂針孔(14)。
3.根據權利要求2所述的一種硅片研磨裝置,其特征在于:所述方形槽(11)的深度為硅 片(3)厚度的三分之二。
4.根據權利要求1所述的一種硅片研磨裝置,其特征在于:所述研磨盤(2)為轉動件,所 述研磨盤(2)為一直徑大于硅片固定裝置(1)直徑的圓形板,所述研磨盤(2)上設置有多道 圓環形槽(21)。
5.根據權利要求2所述的一種硅片研磨裝置,其特征在于:在所述方形槽(11)底面還設 置有墊片(4),所述墊片(4)包括增高層(41)和緩沖層(42),所述增高層(41)設置于所述緩 沖層(42)上。
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