[實用新型]用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構有效
| 申請號: | 201521118472.3 | 申請日: | 2015-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN205301578U | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 華瑞平;朱皓 | 申請(專利權)人: | 海鷹企業集團有限責任公司 |
| 主分類號: | G01S7/521 | 分類號: | G01S7/521 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標代理有限公司 11239 | 代理人: | 宋方園 |
| 地址: | 214061 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 水下 探測 深度 測量儀 薄膜 結構 | ||
1.一種用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構,其特征在于:包括頂座、前殼和底座,前殼上方與頂座固定連接,前殼下方與底座固定連接,所述前殼內設有空腔,空腔通過鋼膜密封,在空腔內安裝有鋁板,鋁板上設有若干個通孔,空腔在真空狀態下填滿油。
2.根據權利要求1所述的用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構,其特征在于:所述前殼與底座之間安裝有減震板。
3.根據權利要求2所述的用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構,其特征在于:所述減震板焊接在底座上,鋼膜焊接在前殼上密封前殼。
4.根據權利要求1所述的用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構,其特征在于:所述鋁板包括上鋁板和下鋁板,上鋁板和下鋁板均對齊設有上下貫通的通孔。
5.根據權利要求1或4所述的用于水下探測的大深度測量儀的薄膜基陣結構,其特征在于:所述通孔包含大圓柱孔和小圓柱孔,大圓柱孔和小圓柱孔交替分布。
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