[實(shí)用新型]同面電極光電二極管陣列有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201521117539.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205319156U | 公開(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張嵐;李元景;劉以農(nóng);胡海帆;李軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電極 光電二極管 陣列 | ||
1.一種同面電極光電二極管陣列,其特征在于,包括多個(gè)同面電極光電二極管,每個(gè)同面電極光電二極管包括:
第一導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體襯底;
在第一導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體襯底上形成的第一導(dǎo)電型輕摻雜半導(dǎo)體層;
在所述第一導(dǎo)電型輕摻雜半導(dǎo)體層的上部形成的第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域,其中所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域與所述第一導(dǎo)電型輕摻雜半導(dǎo)體層形成PN結(jié)二極管,并且第二電極從所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體層在光線入射側(cè)引出;
圍繞所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域的第一導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域,并且第一電極從所述第一導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域在光線入射側(cè)引出;以及
設(shè)置在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域和所述第一導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域之間的溝槽結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述溝槽結(jié)構(gòu)是由一種絕緣材料或多種復(fù)合絕緣材料,或光線反射材料填充溝槽而形成的。
3.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述溝槽結(jié)構(gòu)是由與第一導(dǎo)電類型的重?fù)诫s單晶半導(dǎo)體或多晶半導(dǎo)體材料填充溝槽而形成的。
4.如權(quán)利要求2所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述溝槽結(jié)構(gòu)包括且在所述溝槽周圍形成第一導(dǎo)電型的重?fù)诫s區(qū)域。
5.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述溝槽結(jié)構(gòu)包括未填充的溝槽,且在溝槽底部及側(cè)壁覆蓋一層絕緣層、多層復(fù)合絕緣層或光線反射材料。
6.如權(quán)利要求5所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,在溝槽周圍形成第一導(dǎo)電型的重?fù)诫s區(qū)域,在溝槽底部及側(cè)壁覆蓋一層絕緣層、多層復(fù)合絕緣層或光線反射材料。
7.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述溝槽結(jié)構(gòu)包括溝槽,且在溝槽底部及側(cè)壁覆蓋一種絕緣材料,或多種復(fù)合絕緣材料,或光線反射材料,然后由單晶半導(dǎo)體材料或多晶半導(dǎo)體材料填充溝槽。
8.如權(quán)利要求7所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,填充溝槽的單晶半導(dǎo)體材料或多晶半導(dǎo)體材料,相對(duì)于第二電極連接到高電位。
9.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,在第二導(dǎo)電型重?fù)诫s半導(dǎo)體區(qū)域的上部形成較薄的第一導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域或第二導(dǎo)電型輕摻雜區(qū)域,且四周被所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域包圍。
10.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域下部形成連續(xù)第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s區(qū)域,或僅在第二導(dǎo)電類型重?fù)诫s區(qū)域下方設(shè)置一段第一導(dǎo)電類型重?fù)诫s區(qū)域。
11.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域下面,形成連續(xù)的絕緣材料區(qū)域,或僅在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域下方設(shè)置一段絕緣材料區(qū)域。
12.如權(quán)利要求10或11所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述第一導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域形成為溝槽結(jié)構(gòu),向下延伸至所述第一導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域或絕緣材料區(qū)域,并與之連接。
13.如權(quán)利要求1所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域下面,形成連續(xù)帶絕緣層的傳導(dǎo)結(jié)構(gòu),或僅在所述第二導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域下方設(shè)置一段帶絕緣層的傳導(dǎo)結(jié)構(gòu),該傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)由絕緣材料或半導(dǎo)體材料構(gòu)成。
14.如權(quán)利要求13所述的同面電極光電二極管陣列,其特征在于,所述第一導(dǎo)電型重?fù)诫s區(qū)域?yàn)闇喜劢Y(jié)構(gòu),向下延伸至帶絕緣層的傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的半導(dǎo)體材料區(qū)域,并與之連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





