[實用新型]一種用于制備陶瓷的上釉設備

有效

• 申請號: 201521098526.4
• 申請日: 2015-12-24
• 公開（公告）號: CN205258331U
• 公開（公告）日: 2016-05-25
• 發明（設計）人: 李小安;陳貯春;潘發旺;陳春梅
• 申請（專利權）人: 江西省環球陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 周美華

技術領域

本實用新型涉及陶瓷制備技術領域,具體涉及一種用于制備陶瓷的上 釉設備。

背景技術

在陶瓷制備過程中需要對陶瓷胚進行上釉處理，現有技術中對陶瓷胚 上釉的裝置的結構大多如中國專利文獻CN202576265U公開的上釉裝置，主 要包括框形支架，設置在支架上的升降機構，設置在升降機構上的儲料桶， 儲料桶的出料口通過管道連接于噴槍，噴槍滑動設在絲杠平臺上。在升降 機構的帶動下，儲料桶能夠沿豎直放置在支架上做升降運動，以改變儲料 桶的位置高度。其中，升降機構包括設置在支架底部上的電機，懸掛在支 架的頂部上的滾輪，設置在滾輪上的鋼絲，鋼絲的一端連接于電機的動力 輸出端，另一端穿過滾輪并固定在儲料桶上。

但是，上述上釉裝置的升降機構，由于儲料桶設置在電機的正上方， 在儲料桶下降過程中，若控制不及時，儲料桶很容易撞擊在電機上，對電 機造成一定的損壞，即使在電機上設置彈簧，彈簧的緩沖作用畢竟有限， 還是會損壞電機；另外，僅靠一個鋼絲繩來固定儲料桶，儲料桶容易在空 中晃動，使得儲料桶的出料口出料的速度不均勻，造成噴槍將釉料噴到陶 瓷胚上的厚度不均勻，影響陶瓷上釉的效果；在施工過程中，晃動的儲料 桶也造成一定的安全隱患。

實用新型內容

因此，本實用新型所要解決的技術問題在于克服現有技術上釉裝置的 上釉不均勻且安全性低的缺陷，從而提供一種能夠改善上釉的均勻性且安 全性高的上釉設備。

為此，本實用新型提供一種用于制備陶瓷的上釉設備，包括

平臺，頂部表面上具有安裝槽，安裝槽的底部具有第一通孔；

儲料桶，具有第一進料口和出料口，設置在所述安裝槽內，所述出料 口上設置第一管道，所述第一管道穿過所述第一通孔且位于所述平臺外；

噴槍，具有第二進料口，所述第二進料口與所述第一管道的遠離所述 出料口的一端連接；

支撐架，用于固定所述噴槍；以及

升降機構，用于驅動所述平臺、儲料桶沿豎直方向上做升降運動；所 述升降機構包括

運動轉換組件,用于將電機的水平方向上的運動轉換為沿豎直方向上 的運動；

連接桿，沿豎直方向設置，至少4個，頂部固定在所述平臺上，底部 連接于運動轉換組件；在電機的驅動下，通過運動轉換組件使得連接桿帶 動平臺沿豎直方向上做升降運動，以改變所述儲料桶在豎直方向上的高度 位置。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，所述運動轉換組件包括

凸輪傳動機構，所述連接桿的底部連接于所述凸輪傳動機構；

伸縮軸，沿水平方向設置，一端連接于電機的動力輸出軸，另一端連 接于所述凸輪傳動機構。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，還包括蓋體，所述蓋體密封設置在 所述第一進料口上。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，所述安裝槽開設在所述平臺的中間 位置處，且所述連接桿為四個，四個所述連接桿分別設置在所述平臺底部 的四個角上。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，還包括攪拌裝置，用于攪拌所述儲 料桶內的釉料。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，所述攪拌裝置包括

攪拌軸，沿豎直方向穿設在所述儲料桶的頂部上，底部伸入所述儲料 桶的內部；

葉片，若干個，設置在所述攪拌軸的底部上；

驅動器，動力輸出軸連接于所述攪拌軸的頂部，驅動所述攪拌軸帶動 所述葉片在水平方向上轉動。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，所述噴槍滑動連接在所述支撐架上； 所述支撐架具有至少一個滑軌，位于所述滑軌上的至少一個滑塊；

所述噴槍固定在滑塊上，在滑塊的帶動下，所述噴槍能夠沿著水平方 向移動；還包括

轉動件，用于帶動待上釉陶瓷胚轉動，以使得噴槍的噴嘴能夠對待上 釉陶瓷胚進行完整的上釉。

上述的用于制備陶瓷的上釉設備，所述滑塊沿X軸方向移動，所述噴 槍的噴嘴朝向Y軸方向，和/或所述滑塊沿Y軸方向移動，所述噴槍的噴嘴 朝向X軸方向。

本實用新型提供的技術方案，具有如下優點：