[實(shí)用新型]一種電路板曝光機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201521091615.6 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205750273U | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何強(qiáng);張念祖;何志偉;何梓豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 梅州市亮如晝科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 楊建新 |
| 地址: | 514794 廣東省梅州市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電路板 曝光 | ||
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





