[實(shí)用新型]一種低折射率蒸發(fā)鍍膜材料的制備系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201521085390.3 | 申請日: | 2015-12-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205443429U | 公開(公告)日: | 2016-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳欽忠;張瑜 | 申請(專利權(quán))人: | 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/08 | 分類號(hào): | C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司: | 福州科揚(yáng)專利事務(wù)所 35001 | 代理人: | 徐開翟 |
| 地址: | 350299 福建省福州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 折射率 蒸發(fā) 鍍膜 材料 制備 系統(tǒng) | ||
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





