[實(shí)用新型]磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極支撐端頭有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201521076527.9 | 申請日: | 2015-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN205241784U | 公開(公告)日: | 2016-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳誠;張少波;劉月豹;鐘汝梅;任丹;孔德輝 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽方興光電新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 蚌埠鼎力專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 34102 | 代理人: | 王琪 |
| 地址: | 233010 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁控濺射 旋轉(zhuǎn) 陰極 支撐 端頭 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域,特別涉及到一種磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極支撐端頭。
背景技術(shù)
目前,連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備采用的陰極(靶材)包括矩形平面陰極、改良后的移動磁 場平面陰極、旋轉(zhuǎn)陰極。這三種陰極分別存在以下缺陷:
對于第一種陰極而言,由于磁控濺射的獨(dú)特物理過程,使得靶材的利用率較低,一般 情況下,利用率難以超過30%;對于第二種陰極而言,靶材的利用率也很難超過45%;另 外,對于前兩種陰極而言,因非濺射區(qū)的沉積層脫落問題,使得產(chǎn)品品質(zhì)下降、有效生產(chǎn) 時(shí)間縮短。低品質(zhì)和高成本,對于使用前兩種陰極的鍍膜設(shè)備而言,是致命的!
對于第三種陰極而言,用于支撐該陰極的端頭結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不盡合理(如:結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜、 松散、體積龐大等),無法保證鍍膜工藝的正常、持續(xù)進(jìn)行。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極 支撐端頭,本端頭的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)較為合理(如:結(jié)構(gòu)緊湊、集成化、體積較小等),真空密封 和冷卻水密封的密封性能穩(wěn)定,有效保證鍍膜工藝的正常、持續(xù)進(jìn)行。
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極支撐端頭,它包括磁 性密封件、水封、外殼、空心軸、水道、皮帶、皮帶盤、鎖定銷、屏蔽片、球軸承、環(huán)形 的限位片和承重片;
外殼的軸向第一內(nèi)通孔自上而下依次由第一孔、第二孔、第三孔共軸線連通而成,第 三孔的內(nèi)徑大于第一孔的內(nèi)徑,第一孔的內(nèi)徑大于第二孔的內(nèi)徑,使得第一孔、第二孔之 間形成第一臺階,第二孔、第三孔之間形成第二臺階;
外殼的外側(cè)在位置上對應(yīng)于第二孔處開有與第二孔相通的兩個(gè)第一皮帶孔,兩個(gè)第一 皮帶孔位于軸向第一內(nèi)通孔的軸線的左右兩側(cè),兩個(gè)第一皮帶孔的軸線均與軸向第一內(nèi)通 孔的軸線相垂直;
外殼的外側(cè)在位置上對應(yīng)于第一孔處開有與第一孔相通的兩個(gè)第一水孔,兩個(gè)第一水 孔位于軸向第一內(nèi)通孔的軸線的左右兩側(cè),兩個(gè)第一水孔的軸線均與軸向第一內(nèi)通孔的軸 線相垂直;
空心軸的軸向第二內(nèi)通孔自上而下依次由第四孔、第五孔、第六孔共軸線連通而成, 第六孔的內(nèi)徑大于第四孔的內(nèi)徑,第四孔的內(nèi)徑大于第五孔的內(nèi)徑,使得第四孔、第五孔 之間形成第三臺階,第五孔、第六孔之間形成第四臺階,空心軸的下端有外伸的圓臺,空 心軸的外壁中部靠近圓臺處有第一環(huán)形槽,第一環(huán)形槽內(nèi)套裝第五密封圈;
水道包括自上而下直徑依次遞減且共軸線連接的圓形連接板、第一圓柱、第二圓柱、 第三圓柱;
第一圓柱的外側(cè)為削平狀的安裝面,第一圓柱內(nèi)有進(jìn)水孔、進(jìn)水室、出水孔、回水室, 前兩者與后兩者相隔絕,進(jìn)水孔和出水孔的外端位于安裝面上,進(jìn)水孔的內(nèi)端與進(jìn)水室相 通,出水孔的內(nèi)端與回水室相通;
水道內(nèi)的軸向中心區(qū)域開有依次貫穿第三圓柱、第二圓柱并與進(jìn)水室相通的進(jìn)水通 道,水道內(nèi)的軸向外緣處開有若干相互平行間隔的回水通道,每個(gè)回水通道均依次貫穿第 三圓柱、第二圓柱并與回水室相通;
第三圓柱的下端面外緣處設(shè)有與回水通道相間隔的掛接耳;
空心軸的中部自下而上地依次同軸套裝屏蔽片、磁性密封件、皮帶盤,屏蔽片擔(dān)置在 空心軸的圓臺上,圓臺、屏蔽片、磁性密封件之間設(shè)有起連接作用的若干固定銷,固定銷 的軸線與空心軸的軸線相平行,皮帶盤固定在空心軸上,第五密封圈與磁性密封件緊密接 觸;
外殼的第一孔內(nèi)自下而上地依次同軸安置球軸承、限位片,球軸承的外圈擔(dān)置在第一 臺階上,限位片與球軸承的外圈貼靠接觸;
皮帶經(jīng)一側(cè)的第一皮帶孔穿入第二孔內(nèi)并經(jīng)另一側(cè)的第一皮帶孔穿出;
所述裝有屏蔽片、磁性密封件、皮帶盤的空心軸與外殼內(nèi)外同軸套接;
磁性密封件位于第三孔內(nèi),外殼的第三孔與磁性密封件之間呈緊密接觸的密封狀態(tài), 鎖定銷貫穿外殼在第三孔處的殼壁與磁性密封件相接;
皮帶盤位于第二孔內(nèi)且與兩個(gè)第一皮帶孔在位置上相對應(yīng),皮帶與皮帶盤相接;
空心軸位于第一孔內(nèi)的上部軸體與球軸承的內(nèi)圈同軸套接,承重片同軸置于外殼的第 一孔內(nèi),承重片的外緣擔(dān)置在球軸承的內(nèi)圈上,承重片的內(nèi)緣擔(dān)置并固定在空心軸的上端 面上;
水道分別與空心軸、承重片內(nèi)外同軸套接;
連接板擔(dān)置并固定在外殼的上端面上;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于安徽方興光電新材料科技有限公司,未經(jīng)安徽方興光電新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201521076527.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





